フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

シエンタオミクロンSPM（走査型プローブ顕微鏡）超高真空排気装置

走査型プローブ顕微鏡用の様々な超高真空排気装置をご用意しております

各種SPM用超高真空排気装置、ボルトオン型SPM用超高真空排気装置（後日前処理室拡張可能／試料前処理室付き）、LT-SPM用超高真空排気装置（試料前処理室拡張可能）、Cryogenic型SPM用超高真空排気装置など、様...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージFS-1020UPX(V)

【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置…

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　50mm動作

【真空対応】リニアエンコーダの位置情報で再現性が取れる10nm分解能で…

真空中で使用するためにアウトガスを出さない部品でステージを作りました。 そのため、真空チャンバー内にステージを導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

【資料DL可：AFM】走査型プローブ顕微鏡おける事例集

構造解析/弾性率測定/導電性測定などAFM走査型プローブ顕微鏡による分…

当事例集では、『AFM：走査型プローブ顕微鏡』における分析事例をご紹介します。 【掲載内容】 ●「食品（そうめん）の構造解析および弾性率測定」手法、結果 ●「真空中AFM導電性測定」の特長や分析事例 ●「AFMによる材料表面の導電性評価」の特長や分析事例 ●「高分子材料のAFM観察（ミクロトームによる平滑化）」 弊社の強みの１つであるAFMを使って...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

電子制御メカニカルシャッター

電子制御メカニカルシャッター

。 ◆各種取付けマウントに対応 −接続用には各種マウントを取り揃えており、ビデオ用(Cマウント他)から顕微鏡用(オリンパス/ニコン/Zaiss/Leica)まで幅広く対応可能です。 ◆真空対応可能 −低〜中真空に対応可能です。(オプション)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

サイエンス用InGaAS冷却式近赤外カメラNinoxシリーズ

世界最高レベルの高感度・低ノイズの天文観測用SWIRカメラ。

【最新モデル】Ninox 640 SU ■ 画素フォーマット：640 x 512(VGA)　画素ピッチ：15μm ■ -80℃真空冷却 ■ 冷却により非常に低い暗電流(<300e/p/s)を実現 - 長時間露光(～300sec)が可能 ■ 低読み出しノイズ <56e-(High Gain)・低暗電流 - SWIRカメラで業...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム

150mm-200mm手動プローブシステム『WL-1160』

高い信頼性で正確なRF/mmW、DC、IV-CV、ハイパワー試験計測 …

当社では、磁気もしくは真空吸着、又は固定式のRF/DC/HPポジショナー 対応のスチールプラテンを搭載した150mm-200mm手動プローブシステム 『WL-1160』を取り扱っております。 頑丈な設計、複数のセットアップ...

メーカー・取り扱い企業： 東機通商株式会社

シエンタオミクロン　走査型プローブ顕微鏡

お客様のご要望に応じた多種多様な顕微鏡をご提供しております

【ラインナップ】 ○超高真空対応走査型トンネル顕微鏡　STM-1（ボルトオン） ○走査型原子間力プローブ顕微鏡　UHV-AFM/STM（ボルトオン） ○温度可変走査型プローブ顕微鏡　VT-STM（ボルトオン） ○温度可変...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

TEMホルダー 「透過型電子顕微鏡用試料ホルダー」

御客様の仕様に合わせて試作開発を承っております。

R-01 ○反応ガス2種導入TEMホルダー KRWG-01 ○引張り応力計測TEMホルダー KPSM-01 ○蒸着TEMホルダー KEVA-01 ○大気遮断TEMホルダー KAC-01 ○真空封止型試料搬送機構 KVSST-01 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

蛍光X線分析(XRF)用油圧プレス・加圧成型機

蛍光X線分析（XRF)用の錠剤成形機です。手動式、自動式、安全機能付き…

の保護や試料のプレス条件を一定に出来ます。 【ミニ油圧プレス】 場所を取らない卓上型の小型油圧プレスです。 油圧による荷重のため、押し下げたり、強く握るなどの余分な力を必要としません。 真空ポンプを使用することなく簡単に透明度の高いKBr錠剤を作成できます。錠剤サイズは7mmです。(オプション: 3 mm, 5 mm, 8 mm) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社システムズエンジニアリング

マニュアルプローバ『LP-1』

小型軽量！実体顕微鏡標準スタンドが使用できるマニュアルプローバ

【主な仕様】 ■試料台：最大1インチ ■試料固定方式：真空吸着 ■作動範囲：X100mm、Y130mm、Z10mm、Zレバー1mm ■大きさ：240（W）×240（L）×150（H）（レバー含む250（W）（mm）） ■重量：約4Kg　　　 ■オプ...

メーカー・取り扱い企業： ルフト有限会社

『マイクロツーナノ社製　電子顕微鏡アクセサリー』

各種サンプルホルダーをはじめとした様々な製品をご用意しています！

【取扱製品】 ■各種サンプルホルダー ■ユニバーサルアダプター ■試料ホルダー保存ボックス ■高精密ハサミ ■ピンセット ■標準サンプル ■サポートフィルム ■グリッドボックス ■真空ストレージコンテナ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エルミネット株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社