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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応…
~200mmまでのウエハおよび基板,6mmまでの積層厚みに対応 ■高精度ボンドアライナーモジュールXBS200と革新的な搬送機構の組み合わせにより,高精度のポストボンドアライメント精度を実現 ■真空またはガス雰囲気の制御による接合環境の制御...
メーカー・取り扱い企業: ズース・マイクロテック株式会社
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈…
株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部 -
公自転式撹拌脱泡装置『カクハンター SK-1100TV III』
中型量産モデルがパワーアップして新登場。真空減圧機能を搭載し、…
株式会社写真化学 草津事業所 -
半自動真空枚葉貼合装置『R-ACSE430aa』
アライメントマークありの場合、位置合せ精度±0.05mm!スリ…
クライムプロダクツ株式会社 -
真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
ギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可…
ユニテンプジャパン株式会社 -
近赤外線ヒーター(ヒートビームシリーズ)
ハロゲンランプヒーターより放射される光(近赤外線)を照射し、高…
株式会社ハイベック -
全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』
タッチパネル搭載!荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続…
エヌピーエーシステム株式会社 -
メタルシール採用事例:半導体製造用化学物質キャニスター
樹脂製やエラストマー製のシール材質が使えない物質に朗報!メタル…
テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社 -
T型真空計『NMT-2000-01/02/05』
豊富な機能・計測画面を有したタッチパネル式卓上型の製品をご紹介…
株式会社岡野製作所 -
【事例集】レーザー干渉式リニア変位センサによるQA&QC
ナノメートル精度で変位・変形・振動を計測。超高真空・高磁場対応…
株式会社日本レーザー -
『わかる!乾燥条件から選ぶ、乾燥機選定ガイド』
乾燥条件から簡単に乾燥機を選べる○×表を掲載。8つの乾燥方式に…
株式会社クメタ製作所 本社/工場