真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

公自転式撹拌脱泡装置『カクハンター SK-1100TV III』

PR中型量産モデルがパワーアップして新登場。真空減圧機能を搭載し、微細な気…

『カクハンター SK-1100TV III』は、材料の撹拌・脱泡を同時に行える装置です。 真空減圧機能を搭載しており、真空引きをしながら遠心脱泡が行えるため 除去が困難なサブミクロンレベルの泡まで脱泡処理することが可能。 高粘度材料にも対応できるほか、公転・自転の比率を 可変することができ、材料や条件に合わせた処理が行えます。 【特長】 ■回転数大幅UPによる強力撹拌 　当社従来機との比較で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社写真化学 草津事業所

低温用真空炉『TITAN LT』

TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉！

『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。 生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。 【用途】 焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： Ipsen株式会社

ろう付け・光輝焼入れなどの各種プロセスに対応する真空熱処理炉

冷却ガス圧力対応の真空熱処理炉。オプションにより真空浸炭・浸炭窒化など…

『Turbo 2 Treater(T2T)』は、 2～12barの冷却ガス圧力対応の真空熱処理炉です。 20言語以上に対応したグローバルシステムでオペレーションが可能です。 コンパクトな設計で、標準コンテナでの輸送も可能です。 光輝焼入れ・光輝焼鈍・光輝焼戻し・ろう付けな...

メーカー・取り扱い企業： Ipsen株式会社

急速冷却可能な真空ガス焼戻し・焼鈍し炉『1室型真空焼戻し炉』

冷却速度が速い・プロセスサイクルの短縮・急速冷却可能な真空焼戻し炉！【…

【仕様】 ■使用温度：200～650℃ ■最高温度：700℃ ■温度分布：±5℃ ■真空到達度：2.66Pa (2×10-2Torr)(空炉、常温、脱ガス後) ■冷却圧カ：1×105Pa(760Torr) ■使用圧力：1.33Pa～1×105Pa(102Torr～760Torr)...

メーカー・取り扱い企業： Ipsen株式会社

加圧式2室型真空ガス焼入炉『SSVF-GIIS(W)』

高速度鋼の焼入を省エネルギー・長寿命にて実現する真空ガス焼入炉！

も可能。 さらに、中間扉の採用により、加熱室は完全に独立されており、 連続処理時は予熱を利用することでコスト低減ができます。 独立された加熱室は常にクリーンな状態で維持する事ができ、 高真空にすることなく光輝性が得られます。 【特長】 ■優れた冷却性能 ■コスト低減 ■均一な温度分布 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： Ipsen株式会社