• FOUP洗浄装置 製品画像

    FOUP洗浄装置

    PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

    【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能(常温→65℃まで3秒)  ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa(15...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

  • 可動真空チャンバー <ボディフレーム> 製品画像

    可動真空チャンバー <ボディフレーム>

    ご使用の開放プレス機に装着、低コストで真空プレス機に転用します。

    ■コスト  低コスト(ハウス型の約1/20)で真空加熱成形を実現します。プレス機は改造不要です。  既存の加熱プレス機に取り付けるだけで、真空プレス機に転用できます。 ■気密性  確実な気密性で133〜1.33Pa(1.0〜0.01Torr)の真空度を実現します。  製品の酸化不良を防止、高品質化を実現し歩留まりも向上します。 ■耐熱性  BFS(角形)では最高260℃まで使...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タンケンシールセーコウ

  • プラズマクリーニング装置「POEM」(プラズマクリーナー) 製品画像

    プラズマクリーニング装置「POEM」(プラズマクリーナー)

     多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリー…

    半導体製造装置のチャンバをシンプル化・低コスト化しプラズマクリーニングに応用 プラズマモード切替機構(RIE,DP)とマルチガス(Ar、N2,O2,H2)プロセスにより従来にない表面処理を実現。 基板洗浄(酸化物・有機物除去・微細異物除去) 親水性処理(メッキ前処理、半田濡れ性向上) 撥水性処理(ウェット工程前処理) リフロー前処理に実績豊富 半田濡れ性向上効果大 ハイエンド製品(高密...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ギ酸還元リフロー装置『真空ソルダリングシステム』 製品画像

    ギ酸還元リフロー装置『真空ソルダリングシステム』

    1チャンバに加熱冷却システムを備えたコンパクトなバッチ式システム

    ギ酸還元と圧縮法によりクリーンで高品質なはんだ付けを実現します。 ■はんだフラックスやフラックス洗浄が不要 ■ボイドとはんだ飛散を同時に抑制 【特長】 ■ギ酸の直接気化(当社特許取得技術) ■輻射熱による高速昇温 ■安全なギ酸供給・排出(当社特許取得技術) ■各種カスタム対応(搬送、生産管理など) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。......

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オリジン メカトロニクス事業部 営業部

  • 小型スペースシミュレーション・チャンバー 製品画像

    小型スペースシミュレーション・チャンバー

    省スペースのスペースシミュレーションチャンバーは宇宙空間における各種研…

    NDT-4000は、真空状態や制御可能な均一熱・冷熱サイクル条件でデバイスやサンプルを試験するためのデバイス試験システムです。NDT-4000は、コンピュータ制御、安全インターロック、パスワード制限付きの複数レベルのアクセス権を備えています。このシステムは、レシピで定義された温度条件を変化させながら、36時間を超える長時間にわたって、自動化された熱・冷却サイクルでデバイスやサンプルをテストするため...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

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