• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 【技術資料進呈!】『赤外線ヒーターの種類による違いと選び方』 製品画像

    【技術資料進呈!】『赤外線ヒーターの種類による違いと選び方』

    PR自社の加熱・乾燥プロセスに合う赤外線ヒーターがわかる!赤外線ヒーターの…

    『赤外線加熱技術シリーズ』は、真空紫外から中波長赤外線までの波長領域 を網羅する工業用特殊光源を扱うエクセリタスノーブルライトジャパン (旧ヘレウスノーブルライト)が、様々な加熱の種類について解説している 技術資料シリーズです。今回は、赤外線加熱・乾燥プロセスのための 「知っておきたいシリーズ」第4弾! 工業用に用いられる赤外線ヒーターには多くの種類がありますが、その種類 や違いな...

    メーカー・取り扱い企業: エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社

  • アッシング装置 製品画像

    アッシング装置

    エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

    【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■プラズマソース:CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス:MBP+DP ・高真空プロセス:TMP+DP ■圧力制御:APC制御 ■プロセスガス:F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お気軽にお問い合わせ下...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 量産用プラズマクリーニング装置(大型プラズマクリーナー) 製品画像

    量産用プラズマクリーニング装置(大型プラズマクリーナー)

    自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

    先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...平行平板型高周波真空プラズマによる各種基板のクリーニング・親水化に実績 プリント基板、...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置) 製品画像

    洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)

    洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング…

    ● 大気圧作動であるため真空システムが不要 ● コンパクト設計 ● 操作が簡単、メンテナンスが容易 ● 低コスト...UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • ipros_bana_提出.jpg
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR