小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

触媒塗布用 中型スプレー装置（スプレーコーター）

触媒塗布の生産対応型。 広面積のMEA向け塗布装置。　　　　　　　　…

触媒コーティングなどの固体分散液を塗布・成膜するために最適化された生産対応型のスプレーコーターです。固形物の沈降や分離により塗布が不可能なプロセスに対して、安定成膜を可能にしました。塗工技術やノウハウを装置に凝縮し、研究開発から生産に即応したスプレー装置を実現しています。 【特長】 ◆間欠吐出（パルス吐出法）でノズルの目詰りのない安定した吐出。 ◆コート液の循環機能により沈降・分離することな...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エーシングテクノロジーズ 湘南藤沢研究所　

株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介

液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！

『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FLOSFIA

蒸着材料／蒸着関連部品

高品質材料を用いたハースライナー、ボート、電子銃用フィラメント等、様々…

USTRON（アストロン）は、2002年から中国の自社工場にて、真空蒸着に 使用される各種高純度蒸着材料を製造・販売しております。 酸化物、フッ化物、硫化物及び純金属など、多種多様な真空蒸着材料を 提供しており、ハースライナーに応じた形状・サイズの薄膜材料での 製作も可能。 お客様の様々なニーズへ対応しております。 【特長】 ■二酸化ケイ素（SiO2） ・規格が揃ってい...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

GCIB(ガスクラスターイオンビーム)による表面改質の受託加工

お手持ちの基板の表面凹凸をナノレベルで平坦化させます！

東邦化研株式会社では、これまで成膜技術で培った真空のノウハウや、薄膜で得た経験を活かし、薄膜の受託加工サービスに加えて、ＧＣＩＢ(ガスクラスターイオンビーム)による『表面改質』の受託加工サービスを始めました。 ...ＧＣＩＢ(ガスクラスターイオンビーム)とは、対象物の表面状態を、ナノレベルで平坦化させる技術です。 真空中で1,000個単位のAr原子が集まったクラスター(塊)をイオン化・加速さ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

【回路基板製造事例】薄膜回路基板

幅広い加工バリエーションに対応可能！ご支給基材への加工や、一部プロセス…

スパッタリング及び蒸着による真空成膜とフォトエッチングを 組み合わせて加工を行う薄膜回路基板の製造事例です。 レーザー、ダイシングによる穴あけや外形カット、 薄膜抵抗形成など、幅広い加工バリエーションに対応可能で、 設計...

メーカー・取り扱い企業： 東洋精密工業株式会社