ベルト研磨機『ベーダーマシン』

PR昭和48年から約50年間愛用いただいているベルト研磨機。信頼と実績に加…

『ベーダーマシン』は、1機1機が優れた研磨性能を誇る当社のベルト研磨機です。 被研磨物の形状・サイズに応じた機種・タイプを選び、作業内容に適した 研磨ベルトを装着することで、幅広い分野の多種多様なものに フレキシブルに対応できます。 高効率研磨・研削による作業時間の短縮・省力化、作業の標準化などに 幅広くご活用ください。 【ラインアップ】 ■ポータブル型　BP-K(エアモーター型) ■受注生...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社松田精機

【動画で解説！】アリが登れない表面を作ってみました

PR「OX-FSP+POLISH」でアリが登れない研磨加工を行った実験を動…

オキソの「OX-FSP+POLISH」が作る摩訶不思議な特殊な表面。 一目ではただのキレイな平面に見えますが、OX-FSPによる微細な マイクロディンプルを残しながら研磨加工を施します。 動画を通じ、当社の技術・魅力を感じてください。 ※詳細内容は、関連リンクまたは関連動画より閲覧いただけます。 　詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...※詳細内容は、関連リンクまたは関連...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オキソ

Siナゲット洗浄装置

Siナゲット洗浄装置　専用バスケットで自動搬送　化学研磨・酸切・高品位…

本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通しワークは洗浄されます。このとき、洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています。 洗浄後は乾燥専用バスケットに移され、１５０℃の温風で予備乾燥されます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　…

＜装置概要＞ 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm／5個の高清浄度を達成しています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧パルスジェット DP-Gun　マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧断続スプレー「DP-Gun」

各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）