• 【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム 製品画像

    【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム

    PRドライ真空ポンプは排気流路に油を用いず、オイルフリーでクリーンな排気を…

    関西光量子科学研究所(木津)に、「X線計測実験真空容器用高真空排気 システム」を納入した事例をご紹介いたします。 本排気ユニットは、真空容器に直接取り付けられる300L/sクラスの磁気軸受形 ターボ分子ポンプTG390Mと、ピラニ型と冷陰極電離真空計の複合型真空計、 そしてそれらのコントローラと補助ポンプ等を載せたカートから成ります。 真空容器に取り付けるターボ分子ポンプは磁気軸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大阪真空機器製作所

  •  含油廃水を90%以上削減『油水分離用UF装置』 製品画像

    含油廃水を90%以上削減『油水分離用UF装置』

    PRエマルジョン化した含油廃水も20倍まで濃縮可能!コンパクトで狭い場所で…

    『含油廃水用UF装置』はチューブ型UF膜を使った油水分離装置です。 少々のキリコやゴミはそのままUFでろ過できますので前処理が要りません。 含油廃水濃縮処理して、NHexを低減させて廃水処理の負担を軽くします。 また、当社は特殊液体の排水処理にも幅広く対応しており、 さまざまな産業・研究機関で活用されています。 【特長】 ■エマルジョン化した含油廃水を10倍~20倍まで濃縮可能 ■プレフィ...

    • 10559905_1523708664529105_18234619153914702_n[1].jpg

    メーカー・取り扱い企業: 日本アブコー株式会社

  • レーザー直接描画装置『DWL 66+』 製品画像

    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    『DWL 66+』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マイクロデバイス製造関連装置 製品画像

    マイクロデバイス製造関連装置

    全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップ

    半導体をはじめとする各種デバイス、センサーなどの露光工程に用いられる、研究開発から中小ロット製造用に最適な片面マスクアライナー、カセットtoカセット搬送システムを搭載し、全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップしました。...半導体をはじめとする各種デバイス、センサーなどの露光工程に用いられる、研究開発から中小ロット製造用に最適な片面マスクアライナー、カセットtoカセット搬送シ...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • マスクレスアライナー『MLA300』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA300』

    プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

    MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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