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  • 高輝度LED!搭載超小型USBカメラ『MD-2090Hシリーズ』 製品画像

    高輝度LED!搭載超小型USBカメラ『MD-2090Hシリーズ』

    PRφ4.2mmの超小型ヘッドに高輝度LEDを8個搭載！このサイズでハイビ…

    高輝度LED搭載超小型USBカラーカメラ『MD-2090Hシリーズ』は、 φ4.2mmの超小型カメラヘッドに4倍の明るさ（従来機比）の高輝度LED照明を8個搭載したハイビジョン画質のCMOSカラーUSBカメラです。 USB（MicroUSBも対応）でノートPCやタブレットに接続して、映像の表示・録画が可能。 また、LEDの調光も手元で簡単にコントロールできます。 ラインナップは、チュー...

    メーカー・取り扱い企業： ウェルドビジョン合同会社

  • 『レーザーマーキングラベル』＜資料・サンプル進呈＞ 製品画像

    『レーザーマーキングラベル』＜資料・サンプル進呈＞

    PR耐候性や耐薬品性に優れたレーザーマーキングラベルを多数提供。発色や再現…

    当社では、産業機械や医療機器など様々な箇所に採用されている 『レーザーマーキングラベル』の製造・販売を手掛けています。 ロール状・シート状など、ご要望に合わせた仕様で提供可能です。 現在、当社製品の仕様や特長、保有設備などを紹介したカタログや、 ラベル15種類、レーザー印字を行った樹脂2種類のサンプルを進呈中。 製品の比較・選定や、印刷技術の参考資料としてお役立てください。 ...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社タック印刷

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + ...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max100...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃ 製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

    ■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空ガス置換オーブン 製品画像

    真空ガス置換オーブン

    Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

    環境をクリーンに保ちます ・独立型の空冷キャビネット方式により、加熱中のワークに影響を与えることなくチャンバーを冷却 ・フロントタッチパネルディスプレイで容易にレシピ作成。レシピメモリー数は12種類 ・チャンバー内を低圧環境にして加熱処理することにより、ガス使用量を削減...

    メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max100...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

    ◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰...

    メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

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