• 粉末化固体レゾール型樹脂の開発 製品画像

    粉末化固体レゾール型樹脂の開発

    PR高い吸湿抑制と耐凝集性及び耐ブロック性!アンモニア発生量を約1/20に…

    当社では、臭気発生の主要因であるヘキサミン(硬化剤)を添加しない、 熱自硬化性を有するレゾール型フェノール樹脂の粉末化に成功しました。 フェノール及びホルムアルデヒドなど毒物・劇物取締法対象物質の 含有量は規制値以下で非該当。 各種フィーラーとのコンパウンド化が可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■レゾール樹脂の粉末化 ■対ノボラック樹脂と...

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    メーカー・取り扱い企業: リグナイト株式会社

  • 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • ロータリーキルン式連続CVD装置 製品画像

    ロータリーキルン式連続CVD装置

    粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 卓上CNT/グラフェン成膜装置 製品画像

    卓上CNT/グラフェン成膜装置

    長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

    【特徴】 ○触媒前駆体のフィラメント加熱機構を追加 ○配向CNTだけでなく、 粉末タイプCNTの大量合成も可能 〇基板や粉体表面へのグラフェンの成膜が可能 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 粉体表面への真空蒸着装置 製品画像

    粉体表面への真空蒸着装置

    粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置…

    蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。...【特徴】 ○当社発案のバイブレーション試料台を搭載し、試料を振動・回転させながら蒸着が可能。 ○粒子の回転により、粒子各面に均一な蒸着が可能で、蒸着斑が大幅に改善が可能。 ○お客様の既存の真空蒸着装置に、当社バイブレーション試料台と逆さま蒸発坩堝を組み込んで搭載させることも可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • 酸化亜鉛ナノロッド生成装置 MPZNO 製品画像

    酸化亜鉛ナノロッド生成装置 MPZNO

    基板上にZnOナノロッドを形成する装置です。

    【特徴】 ○ Au触媒膜なしのシリコンや石英などの基板にも垂直配向ZnOナノロッドが生成可能。 ○テトラヘドラ状ZnOウイスカー粉末も生成可能。 ○サファイア基板にも垂直配向ZnOナノロッドが生成可能。 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

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