高精度研磨を実現する「ダイヤモンドリーマ」

PR【御社に合わせたリーマを設計します】

竹沢精機は、御社のワーク、取り代、要求精度によって理想的な工具、工程を設計します。 ワンパスホーニング加工のプロ集団である竹沢精機は、さまざまな条件に適したダイヤモンドリーマの製造実績を持っています。 お客様の加工環境、条件、悩みなどを、十分に理解・共有したうえで、好適なダイヤモンドリーマをご提案します。...【ダイヤモンドリーマとは】 ダイヤモンド（DIA）または CBN の砥粒を電着させ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社竹沢精機

Maku ag社 Tダイリップ自動調整ロボット

PRTダイに本装置を後付けするだけで、ダイリップ及びチョークバーの調整の全…

Tダイに後付けし、オペレーターによるマニュアル操作またはヒートボルトダイに代わって、 ロボット（アクチュエータ）が幅方向にトラバースし機械的にボルトの開閉を実施する装置です。 既設のＴダイに取付が可能なため、低コストでの自動化を実現することが可能となります。 Ｔダイのボルト位置・ボルト角度等は初期設定でレシピ保存・記憶され、 厚み計からのフィードバックを受けることで確実なボルトへのアプロー...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤忠マシンテクノス株式会社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い均熱性があり、加熱プレート上のどこでもムラなく加熱できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

遠赤外線アニール炉

遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮

、成形機直結の連続処理にも対応でき、生産効率が上がります。 　 ●品質向上 　応用性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱する事ができます。さらに、連続処理する事により寸法精度が安定します。 　寸法精度：±５/１００ｍｍ→±２/１００ｍｍ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

小型遠赤外線アニール炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 （特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±３℃ ●省スペース化が可能。従来連続炉の３０％ ●前後装置の導入により、自動化が可能。 ※テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（E...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

ド x 最大3源 ◉ 真空蒸着：抵抗加熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCで...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

排気) ○排気時間　6.7×10-3Pa迄20分 (2槽排気) ○最高温度　300℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○常用温度　250℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○温度調整精度　±15℃以内 (250℃にて、試料用トレーの中央部の表面温度) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料

用例；EVバッテリー開発（発生水素をオンライで計測）水素ジェット・ター…

センサー単体が水素限定タイプです。（パラジウム・ニッケル合金超薄膜センサー素子技術使用） リファレンスガス不要。自動校正タイプ。ASIC搭載。 レスポンスタイム１秒。 ガスクロレベルの濃度計測精度。アナログ出力・各種デジタル出力対応。 容易な取り付け、メンテナンス費用の大幅削減可能。 使用・搭載実績； 欧米の変圧器中絶縁油・ガス中水素濃度オンラインモニタリング ブレンドガスパイプライ...

メーカー・取り扱い企業： TRANS-PAC SALES CORP

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, et...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（E...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, et...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社