通常のスクリーン印刷でお困りの方必見！『多様形状印刷転写装置』

PR曲率の大きな凹面等へも印刷が可能！大型の対象物でも対応いたします

「多様形状印刷転写装置」は、リバース転写機構を用いることにより、 これまでのスクリーン印刷では対応が困難だった形状や、曲率半径の 小さな凹面、印刷面に高低差のある形状などにも印刷、転写が可能になる製品です。 ペーストは反転されることなくウェットなまま転写されるため、 パターンの崩れや溶媒の吸収の問題が起きにくく、連続した印刷が 可能になります。 また、一般的なスクリーン印刷以上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社曽田鐵工

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

膜厚測定

膜厚測定に関するアプリケーション情報を詳しく解説します

オーシャンオプティクスは、半導体、産業、医療および消費者市場の アプリケーション向けに光学的および非光学的膜厚特性を測定するための モジュラー式および完全統合型システムの両方を提供しています。 顧客は、シリコンウェーハの厚さを測定し、マスク用のフォトレジスト層を判断し、 コーティングの硬度および摩...

メーカー・取り扱い企業： オーシャンフォトニクス株式会社

薄膜評価装置『分光エリプソメーター』

【デモ可能】化合物半導体材料の組成比の評価も可能！非接触・非破壊でエピ…

『分光エリプソメーター』は、非接触・非破壊でエピ膜を含む薄膜の膜厚値、 屈折率、消衰係数を精度良く測定する薄膜評価装置です。 化合物半導体材料の組成比の評価も可能。 主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、 “消衰係数”...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

分光エリプソメーター GES5E

薄膜光学特性を非破壊で測定！ 手軽に高精度測定できる分光エリプソメト…

日本セミラボの分光エリプソメーター『GES5E』は、従来の光学測定器では不可能だった薄膜光学特性の測定を非破壊で実現しました。 薄膜、多層膜の膜厚、各層の屈折率（N,K値）波長分散を算出。研究開発からインライン生産品質管理ほかあらゆる分野で活躍しています。 【測定可能な物理特性】 ■厚さ光学屈折率 ■屈折率の勾配と材料組成 ■ドー...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

回転補償子型 分光エリプソメータ『SE-2000』※セミナー開催

多層膜の膜厚・屈折率を非接触で高精度測定。本体の操作や解析作業が容易　…

『SE-2000』は、薄膜の膜厚・屈折率を“非接触”で高精度に測定できる回転補償子型の分光エリプソメータです。 ユーザーフレンドリーな解析ソフトを備えており、解析作業が容易。 深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

超高速分光スペクトル測定装置　分光器 DTSP-150

ローノイズでコンパクト！裏面入射型ペルチェ冷却FFT-CCD使用

分光器とは、光を虹(波長ごとの光)に分けて波長ごとの光の強さを測定するものです。薄膜などに光をあて、その反射光を分光することによって薄膜成分を計測します。応用例としては、各種ディスク上の膜厚の厚み管理、半導体用ウェハ上のレジスト膜・SiO、光学レンズのコーティング膜厚管理、各種フィルムの膜厚測定、ガラス基板上の配向膜・ITO膜のインライン計測、LEDの色計測などがあります。インライン用...

メーカー・取り扱い企業： ディスク・テック株式会社 本社

分光楕円偏光解析装置　分光エリプソメータMASS-105

多層膜など多くのパラメーターが一度に解析！小型・高速分光エリプソメータ

分光エリプソメータMASS-105は白色光を用いたエリプソメータです。レザータイプに比べ、多層膜などの多くのパラメーター（膜厚、屈折率、吸収係数）が一度に解析できます。分光器には、2048分割のCCDタイプを用いるなど、性能・機能はパワフルなものとなっています。また、分光解析ソフト“SCOUT”を標準装備し､ファイブラボ株...

メーカー・取り扱い企業： ファイブラボ株式会社

大気中光電子分光装置 『AC-3』

大気中で遠紫外線領域(4.00-7.00eV)での光電子測定が可能な光…

『AC-3』は、最高被占軌道近傍の状態密度や仕事関数、イオン化 ポテンシャルを大気中で簡単に測定可能な大気中光電子分光装置です。 またナノメートルオーダーの極表面の情報や極薄被膜の膜厚(0-20nm) を測定することもできます。 【特長】 ■真空中に持ち込めない、粉状や液体状の試料も測定可能 ■1回の測定時間はわずか5分程度 ■イオン化ポテンシャルを大気中で簡単に測...

メーカー・取り扱い企業： 理研計器株式会社 本社

自動楕円偏光解析装置　レーザーエリプソメータMARY-102

小型・低価格・高精度・使い易さを追求した自動楕円偏光解析装置。

レーザーエリプソメータMARY-102はレーザー光による偏光解析法を用いてシリコンやガラス基板の光学特性、又はそれらを基板上の薄膜の膜厚や光学特性（屈折率など）を測定します。MARY-102は、ファイブラボ株式会社の光計測技術を基に、小型・低価格・高精度・使い易さを追求して開発されました。 シミュレーション機能等を充実させた研究用ソ...

メーカー・取り扱い企業： ファイブラボ株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

R室内にベークプレートを配置し、加熱しながら官能基の変化を観察できます。 ○紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 ○レジスト膜厚75nmでの測定を可能。 ○EUVリソのような超薄膜レジストプロセスの解析に最適。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

ポータブルSD-OCTシステム

非接触・非破壊・非侵襲の精密イメージングをコンパクト筐体で実現

フィックグレーティングを搭載しており、位相雑音の少ないクリアな画像モニタリングを可能としております。 用途は生体イメージングを始め、従来非破壊では得られなかったバルク材料中心の内部欠陥等が測定出来、膜厚測定等の産業用途計測器としてご使用頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム

ロールツーロール分光エリプソメータ

ロールツーロール分光エリプソメータ

ロールツーロールにてノンストップで膜厚を多点測定可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

分光楕円偏光解析装置　分光エリプソメータMASS-103

サンプル水平置きタイプで、多彩なサンプルに対応が可能！

用 ○解析力 →分光解析ソフトウエアー“SCOUT”を標準装備 ○再現性 →オプティカルエンコーダとホールモータの組み合わせにより高再測定を実現 ○信頼性 →校正時、NIST基準の数種の膜厚のSiO2/SIサンプル →2種のガラス基板の光学定数測定 【仕様】 ○測定方式：回転位相子法 ○光源：150Ｗ Ha ランプ ○ビーム経：約φ1～5mm ○入射角：約70・60・5...

メーカー・取り扱い企業： ファイブラボ株式会社

マイセック　ダイジェストカタログ　2021＜分析機器関係＞

クラウドAIラマン分光器など！ラボ用分析機器とプロセス用分析機器を多数…

赤外分光光度計「UH4150」 ■クラウドAIラマン分光器 ■ハンドヘルド蛍光X線分析装置「X-MET8000シリーズ」 ■エネルギー分散型蛍光X線分析装置「EA1400」 ■高性能蛍光X線膜厚計「FT160シリーズ」 ※ダウンロードいただけるPDF資料はダイジェスト版です。 　完全版をご希望の方はお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイセック