• 【表面改質技術】溶射 製品画像

    【表面改質技術】溶射

    PR大型製品から小型製品まで適用可能!寸法形状制約が少ない表面改質技術のご…

    『溶射』とは、溶融・半溶融状態に加熱した材料粒子を加速衝突させて 皮膜をつくる表面改質技術です。 メッキや蒸着等に比べて成膜速度が速く、多様な材料(金属・サーメット・ セラミックス等)の溶射が可能。 当社では、腐食環境や摩耗環境そして耐熱目的向けなど、製造現場の 操業条件に応じた表面改質をご提案させていただきます。 何かお困り毎があればお気軽にお問い合わせください。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: 大阪富士工業株式会社

  • 【ファーマラボEXPO出展】リアルタイム相互作用サイトメトリー 製品画像

    【ファーマラボEXPO出展】リアルタイム相互作用サイトメトリー

    PR細胞上でのリアルタイム相互作用解析を可能にする新たな測定法 !

    バイオセンサーの生物物理学的な測定原理とサイトメトリーを組み合わせたReal-Time Interaction Cytometry(RT-IC)法を採用したheliXcytoは、細胞表面上での分子の結合と解離のカイネティクスを直接測定することで、生物学的システムの複雑さを保持した状態での結合定数(アフィニティ、アビディティ)を自動解析することが可能です。 6/26-6/28 ファーマラボEXPO...

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    メーカー・取り扱い企業: DKSHマーケットエクスパンションサービスジャパン株式会社 テクノロジー事業部門

  • SUSS MicroTec 両面位置精度測定器 DSM8Gen2 製品画像

    SUSS MicroTec 両面位置精度測定器 DSM8Gen2

    ウェハ表面/裏面のパターンの位置ズレを高精度で測定

    DSM8/200 Gen2は2~8インチウェハに対応した両面位置測定装置です。 TIS(装置起因誤差)を除去する機能を備えており、MEMS、パワーデバイス、光デバイスといった分野の両面パターニング基盤において、高精度な測定を実現しています。...・装置仕様  対応基板サイズ:2~8インチウェハ  測定精度:0.2um (3σ)  可視光観察  非接触プリアライナー ・オプション ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性 標準:±4.0%(標準) MO Exposure Optics:±2.5%(オプション) ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) 赤外光透過アライメント(オプション) ・オプション機能 MO Exposure Optics 小片基板用対物レンズ 赤外光透過アライメント モニター画像観察(デジ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

    最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

    60nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ±2.5% ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) BSAアライメント IRアライメント(オプション) ・アライメントモード マニュアルアライメント オートアライメント(オプション) DirectAlign(オプシ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

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