【ファーマラボEXPO出展】リアルタイム相互作用サイトメトリー

PR細胞上でのリアルタイム相互作用解析を可能にする新たな測定法 !

バイオセンサーの生物物理学的な測定原理とサイトメトリーを組み合わせたReal-Time Interaction Cytometry(RT-IC)法を採用したheliXcytoは、細胞表面上での分子の結合と解離のカイネティクスを直接測定することで、生物学的システムの複雑さを保持した状態での結合定数（アフィニティ、アビディティ）を自動解析することが可能です。 6/26-6/28 ファーマラボEXPO...

メーカー・取り扱い企業： DKSHマーケットエクスパンションサービスジャパン株式会社 テクノロジー事業部門

『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに！初心者にもわかりやすく解…

「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない（材料・条件による） ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）

初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープ...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）

PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCV...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール（SMCSM）

内蔵のシースモデルを用いて、短時間で計算することが可能です！

『シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール（SMCSM）』は、 プラズマシース端からシースを通ってシース底部（ターゲット表面）に 達するイオン、電子のエネルギー分布、角度分布等を計算します。 PIC-MCCM、PHMとも、計算時間がかかりますが、ターゲット表面のイオンの エネルギーについてのみを評価したい場合、...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

イオンモンテカルロ・シミュレーション・モジュール（IMCSM）

プラズマ解析領域全体におけるイオンのエネルギー分布、角度分布等を計算！

た境界セル での入射エネルギー／角度分布を計算します。 現在のPHMは、装置内のプラズマ分布等を計算しますが、計算モデル上、 イオンのエネルギーは一様としています。しかし、基板／ターゲット表面の イオンエネルギーを求めたい場合が多いと考えられます。 当製品は、PHMの計算結果（空間分布物理量）を用いて、プラズマ解析領域 全体、および基板／ターゲット表面のイオンエネルギー分布等を...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』

真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシ…

　技術者のためのシミュレーションソフトウェア ■真空薄膜技術で必要とされる多くのプロセスに関連するシミュレーションを行うことが可能 ■装置サイズの気相シミュレーションからミクロンサイズの基板表面シミュレーションまで行うことが可能　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

ギー分布、イオンの ターゲットへの侵入深さ（Depth Profile）を計算。 各種材料のスパッタリング率の、イオンの入射エネルギー依存性や 入射角度依存性の評価、イオン注入による材料の表面改質プロセスの 評価などに利用できます。 【特長】 ■当製品単体のみを用いた場合でも、イオン注入、あるいはスパッタリング 　現象そのものに関する計算を行うことが可能 ■PIC-MCCM...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

3次元希薄気体挙動解析ソフトウェア『RGS3D』

DSMC法を用いて中性粒子の密度、温度、圧力分布等を計算するソフトウェ…

元デカルト座標系 ■ソルバー ・ドライバー：RGS3D ・モジュール：RGS3D ■座標系：3次元直交座標系 ■メッシュ形状：任意形状メッシュ（4面体、5面体、6面体） ■境界条件 ・表面反応の指定、反射率（吸着率）の指定、拡散反射条件、鏡面反射条件、 　COS分布反射条件、壁面温度の指定 ■GUI機能：3次元直交メッシュ生成、制御データ、境界条件 ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

スパッタリング・シミュレーション・モジュール（SPUTSM）

より真実味のある入力データでスパッタリング解析をおこなうことが可能です…

属のGUIMを使用（PNGファイル出力、印字出力、テキストデータ入出力、表示画面の任意拡大縮小） ■プレポスト：付属のGUIMを使用 ■付属機能 ・PIC-MCCMの計算結果取り込み機能 ・表面結合エネルギーのデータベースを内蔵 ・弾き出しエネルギーのデータベースを内蔵 ・反跳カスケード追跡 ・バックグラウンド計算 ■解析規模：無制限（実際にはメモリー容量と計算時間で制限されます）...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社