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解説資料 開発元監修『見積段階から機械動作を可視化する3D構想』
PR複雑する装置仕様を見える化!受注率UPと手戻り削減に貢献する3DCAD…
機械設計向け3次元CAD「iCAD SX」の開発元が監修しました。 複雑化する装置仕様の摺合せが難しい理由や問題点を洗い出し、 "装置仕様(動き)の可視化"について解説した資料を無料進呈中です。 【資料概要】 ■製造業を取り巻く環境と、装置の複雑化 ■仕様説明時における取組と課題、目指す姿 ■打ち合わせ初期から一連の動作フローを可視化する効果 ※ 本ページのPDFダウンロード...
メーカー・取り扱い企業: i CAD株式会社 - 機械設計向け3DCAD(3次元CAD)開発元 -
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【コーター】小型塗工機、低価格、短納期、試作、選べる塗布方式
PRダイ、グラビア、ロールコート、ロールtoロールの装置を小型、低価格、短…
コアボックスジャパンはコーターやロールプレスなどの二次電池試作設備、 高機能フイルム関連のコーターなどの装置を低価格、短納期で提供します。 また、制御盤設計製作、制御システムの構築を得意とする電気部門があり、様々な装置の制御お任せください。 当社の『コーター』は、小規模な研究施設に適した小型のものから、 生産機まで幅広く対応しています。 塗布方式もお客様のニーズに適した提案をい...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コアボックスジャパン
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ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステ…
「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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ケミカル汚染物除去フィルタ「リソガードBSMmaxフィルタ」
さまざまな汚染物質からウエハーやレンズを保護し、寿命を最大限にするフィ…
といった汚染物質に対して高い除去性能を発揮するキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。 さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除去に最適です。 【特長】 ■さまざまな汚染物質の除去に使用可能 ・酸性ガス(SO2、HCl、HBr) ・塩基性...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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