製造工程を自動化・省力化へ進化させるTAI-M solution

PR時計製造で長年培った技術を応用し、自動化・省力化をご提供！

製造工程のニーズに合わせた加工機を開発から設計、製造まで社内でおこない、 付加価値の高い装置ユニットを提供しています。 複雑形状の部品加工を可能にした二次加工NC旋盤は、用途によりパレット供給、 採品も可能なカスタマイズ設計により、合理化を実現しています。 また、自社開発の精密計測機器を搭載し、加工前後の製品測定も可能にしました。...・ライン装置 ・スタンドアローン装置...

メーカー・取り扱い企業： シチズンファインデバイス株式会社

三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社／静岡市、支店／東京・沼津・中部・大阪、営業所／横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置で…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・ 故障解析用プロセス対応フレキシブル半導体製造装置です。 RIE/ICP-RIE, PECVD/ICP-CVDに対応し、コンパクトな機体に 多様なオプションで多用途に使えるフレキシブル装置。 企業及びアカデミアのR&D、研究室にラボス...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

バッチ式化合物半導体量産機プラズマCVD・プラズマエッチング装置

フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2～12イン…

当社で取り扱っている、薄膜用PECVD・ドライエッチング装置 「SHUTTLELINE(R)」・バッチプロセス対応コンパクト300＆500シリーズ についてご紹介いたします。 成膜はPECVD。エッチングはRIE, ICP, ICP-RIE。 ユ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置『210Dモデル』

φ200mmウェーハまで対応！成膜・エッチングの両用が可能なプラズマC…

『210Dモデル』は、誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma：ICP)による、成膜装置です。 現場でのハードウエアの交換により、十数分の作業時間で、 誘導結合プラズマエッチング装置として使用する事が可能。 コンパクトな機体に多彩なオプションで、薄膜の堆積やトレンチのパターニング等...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』

複数サイズのウェハに対応！誘導結合プラズマを使用したBosch法による…

『MDS-100/MDS-300』は、誘導結合方式を用いることで、高出力プラズマによる 安定性、均一性に優れた25枚連続処理が可能なプラズマダイシング装置です。 高い均一性を保ちながら、ソーやレーザのようなウェハへのダメージを 発生させずに処理を行うことが可能。 高速ガス切り替えシステムを用いたBosch法によって、優れた側壁形状および...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステムに設置する事も可能。 世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上さ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

半導体故障解析用プラズマ・エッチング装置

ICの絶縁層を除去！フットプリントが小さく、費用対効果の高いシステム

当社では、半導体故障解析用プラズマ・エッチング装置を 取り扱っております。 電気的な特性を維持するために金属層を侵食させない、マルチレベルの デプロセッシングから、金属エッチングを含む、高い選択比で損傷のない プロセスまで、RIE、IC...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・ 成膜装置です。 研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。 また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されて...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

当社のイオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』を ご紹介いたします。 大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 高いスループットを実現。 特にMarathon(TM)グリッドは、従来の方式...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマベースの原子層エッチング装置『Takachi ALE』

表面の単原子層のエッチング！エッチング対象物へのダメージを抑える事が出…

当社が取り扱うプラズマベースの原子層エッチング装置 『Takachi ALE』をご紹介します。 Takachiシステムは、ALEキットを搭載することにより、 ALEプロセスが可能です。 表面の単原子層毎にエッチングしていく為、エッチ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボック...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

es』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE,ICP,ICP+RIE,ICP-CVD又はPECVD装置 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社