電子機器の受託開発・設計（ハードウェア、FPGA、ソフトウェア）

PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。（一貫した開発から部分…

●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社画像技研

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

フォトレジストの研究開発用露光ツール！ フォトプロセス解析用露光装置シリーズ ■□■ラインナップ■□■ ■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） ■UVES-2500 （g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置） ■ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置） ■VUVES-4500mini（248・1...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...【主な特徴】 ●高速現像速度測定機能 ●現像特性解析機能 ●パラメータ計算機能 ●パラメータ用データベース機能...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社