• 中量機用二流体ノズル  ※2024年3月導入済! 製品画像

    中量機用二流体ノズル  ※2024年3月導入済!

    PR300種類超の製造実績!1987(昭和62)年運転開始以来コンタミクレ…

    ラボ機での反響を踏まえ、平均粒子径5~20μmの微粒子造粒粉をつくる 中量機用二流体ノズルを2024年3月に導入致しました。 2022年12月に、微粒子生産試験用として二流体ノズル噴霧機構を 導入してから約一年、お客様からのフィードバックが良好であること、 またその結果を踏まえスケールアップをご希望の声があることなどをかんがみ、 中量機(大川原・OC-16型)向けにも二流体ノズル噴霧...

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    メーカー・取り扱い企業: 日華化成有限会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 非蒸発型ゲッター「真空管向け薄型ゲッター」 製品画像

    非蒸発型ゲッター「真空管向け薄型ゲッター」

    小さいスペースにも利用可能な薄型ゲッター。 密閉封止した装置の中の真…

    真空管向けゲッターフィルムは、50μm厚のニクロム鉄基板に100~200μm程度のTiベースのゲッターを焼結した製品です(基材の両面/片面ゲッター層のいずれにも対応可)。この製品は様々な用途に用いられる非常に要求レベルの高い多種多様な真空管向けに、長い期間に渡って使用されている信頼性の高いものです。現状でも多くの形状・寸法の製品をご用意しておりますが、お客様の必要に応じてカスタマイズ品の製造も可能...

    メーカー・取り扱い企業: サエス・ゲッターズ・エス・ピー・エー 日本支店

  •  MEMS向けゲッター「PageWafer / PageLid」 製品画像

    MEMS向けゲッター「PageWafer / PageLid」

    デバイスの長期安定性を向上! MEMS真空パッケージ向けにデザインさ…

    MEMS向けゲッターフィルムはMEMSパッケージに特化して開発された製品です。 ウエハレベルパッケージ向け製品(PageWafer)とディスクリートパッケージ向け製品(PageLid, PageSheet)の両方を用意しており、いずれもパッケージに要求される高真空レベルを保持し、デバイスの長期信頼性・安定性に貢献します。 現在では、MEMS向けゲッターは、軍事・防衛関連/自動車/工業用途/民生...

    メーカー・取り扱い企業: サエス・ゲッターズ・エス・ピー・エー 日本支店

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