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PR強力なせん断力!より少ない乳化剤量で透明エマルジョンの調製が可能!
『ナノヴェイタ』は、強力なせん断力によりエマルジョンを微細化する 超高圧乳化装置です。 一般的可溶化処方では油剤量に対し乳化剤をその2~5倍要するところ 当製品を用いることで、より少ない乳化剤量で透明エマルジョンの 調整が可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【事例】 ■ホホバオイル10% O/W透明エマルジョンの調製 ■中鎖脂肪酸トリグリセリ...
メーカー・取り扱い企業: 吉田機械興業株式会社 三重ナノテク生産技術センター
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PRエアを供給するとシャフトをアンクランプ、遮断するとシャフトをクランプ!…
クイッククランパーシリーズ新製品!カスタムクランパー エアを供給するとシャフトをアンクランプ、遮断するとシャフトをクランプ。 両端に追加されたリニアブッシュにより、スラスト荷重を受けることが出来ます。 カスタムクランパーをならいユニットに使用すれば、素子の配置パターン替えも容易になります。 高さ調整や位置決め、Z軸の落下防止用途、治具、ロボットハンドなど、様々な用途にご利用いただけます。 【使用...
メーカー・取り扱い企業: トークシステム株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション): ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
どの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など)を全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ・RF...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
ー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション): ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜レート、APC自動圧力制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など)を全自動運転(手動も可能) Windows PC用付属ソフト(IntelliLink)で装置モニター、データロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2i...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
ー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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