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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社
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豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…
炉内を水素還元雰囲気置換。Ｎ２による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
合わせて開閉型の加熱炉体や急冷用空冷ファンの装備が可能で、高真空排気系・Ｏ２ガス系・ＡＰＣ機構など多くのオプション類を揃えています。 真空及び不活性雰囲気中の処理を標準としており、オプションで還元雰囲気中での処理にも対応いたします。 高真空排気後の大気圧水素雰囲気処理により電極膜のアニールだけでなく半導体膜、結晶膜の高温還元熱処理も可能です。 基板に合わせて温度の均一性と基板のハンドリング...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
６インチウェハ対応の石英管の横型炉を標準とし、8インチ、縦型炉がオプション対応 高真空排気系も装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。 実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。 不活性雰囲気アニールにも対応できる専用アニール装置。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…
実績豊富な標準バッチタイプ真空半田付装置の性能・処理能力を一段と向上 処理寸法３５％以上拡大。常用処理温度も１００℃以上アップ。 量産に対応した新型真空半田付装置。 真空置換＋水素還元雰囲気処理で低温・焼結時も低酸素・高還元雰囲気を維持他の半田付装置には無い雰囲気制御技術で各種金属ナノペーストの燒結接合の高信頼性を実現。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気（不活性、酸化、還元）雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...Ｓｉウェハへの対応を基本とし...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
nch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inch...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…
Max1900℃ ◆◇対応基板サイズ◇◆ ・Φ1〜8inch基板、150mm角 ◆◇使用雰囲気◇◆ ・高真空,不活性ガス(CCC) ・超高真空, O2(Gr+SiC3コート) ・還元雰囲気中(Gr+TiC3コート)...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置
シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結）によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー半導体に最適です。 真空チャンバー内での加熱、シンタリング（加圧）、冷却の全工程で、サブストレート温度、雰囲気圧力および、プロセスガスを、リアルタイムで正確に制御すること...
メーカー・取り扱い企業： ピンク・ジャパン株式会社
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枚葉式プラズマリフロー装置（フラックスレスリフロー）テスト受付中
フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェット…
ダメージフリーのダウンフロー型表面波プラズマの強還元性Ｈ２ラジカル雰囲気でフラックスレスリフロー フラックス塗布、洗浄工程 塗布装置、洗浄装置を削減。完全ドライＣｔｏＣシステム。ファインピッチバンプの短タクトリフロープロセスを実現。 ...チャージアップダメージフリープロセス。 信頼性の高い安定した搬送機構 均一な温度分布による３００ｍｍウェハ面内のリフロー温度プロファイル ３００ｍｍウェ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Dpak、To220からTo3p、IGBTまで、高品質高熱容量デバイス…
ローダーから供給された短冊リードフレームを、還元雰囲気で保たれたヒーターレール上をピッチ送りしながら、半田供給を行ないチップボンディングし、アンローダーへ収納するまでを行なうダイボンダーです。 半田接合をベースに金共晶、エポキシ接合にも対応可能で...
メーカー・取り扱い企業： キヤノンマシナリー株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
nch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inch...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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