湿式電気集塵機　高性能・省エネ型　

PR集塵極へのダストの付着・堆積が少ないダスト・ミスト処理設備

当社では、高電圧でダスト・ミストの除去率が高く、ヒュームなどの 超微粒子の除去も容易にできる湿式電気集塵機を提供しております。 角筒型のため、堅固で長年使用してもほとんど変形せず、初期の性能を 長期間維持することが可能。 また、広極間なので集塵極にダストが付着・堆積した場合でも電圧低下が 少なく、性能が低下しません。 【特長】 ■集塵極間が広い ■定電圧制御方式を採用 ...

メーカー・取り扱い企業： 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社

アンモニアを含む排水処理に！『アンモニア除去・回収装置』

PR【多数導入実績あり】必要に応じた濃度のアンモニアの回収が可能な装置のご…

アンモニア除去・回収装置は、廃水中のアンモニアを放散回収する過程で使用される装置です。 これにはスチームで放散する方法と空気で放散する方法があります。 アンモニアは、用途に応じた濃度のアンモニア水、もしくはアンモニアガスとして回収することが出来ます。 硫安として回収することも可能です。 触媒を組み合わせることで放散させたアンモニアを分解させ、無害化することも可能です。 【特長】 ■必要濃度でア...

メーカー・取り扱い企業： 第一エンジニアリング株式会社

シリコーン樹脂溶解剤『KSRシリーズ』

基板にダメージを与えず、シリコーン樹脂のみ容易に溶解除去が可能なシリコ…

『ＫＳＲシリーズ』は、シリコーン樹脂を容易に溶解除去し、 且つ金属、ガラス、セラミックス、ガラスエポキシ等の基板に ダメージを与えない、室温での利用が可能な樹脂溶解剤です。 【特長】 ■各種シリコーン樹脂を溶解除去が可能 ■塩素系溶剤を...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部

CMP後洗浄液『CMPシリーズ』

金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液

CMP後のウェーハ上に残留した金属不純物やパーティクル、有機物を効率良く洗浄することが可能なCMP後洗浄液です。 各種金属材料や層間絶縁膜に対してダメージを与えません。 【特徴】 ■CMP後の各種汚染物に対して優れた洗浄性 ■希釈使用が可能（30～100倍程度） ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...■Cu-CMP, W-CMP向け 　・ CMP-M02 ■W-CMP...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部

チタンエッチング液『TIシリーズ』

各種金属材料との選択エッチングが可能なチタンエッチング液

CuやAu電極のバリア層や密着層の除去において、Tiの選択的なエッチングが可能です。 【特徴】 ■TI-8Aは各種金属との選択エッチングが可能であり、TiNやTiWのエッチング液としても使用可能 ■TI-101は過酸化水素水を...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部