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DAコンバータユニット(USB接続)『TUSB-0416DAM』
PR分解能16ビット、変換レート1MHz USBインターフェース付きDAコ…
本ユニットは、分解能16bit、変換レート1MHzの高性能DAコンバータユニット(USB接続)です。 アナログ出力はBNCコネクタ4チャンネルで、高分解能の直流電圧出力の他、FIFO方式メモリとUSBインターフェースとの組み合わせで、制限なく連続的に波形出力が可能です。 可変基準電圧源の他、ファンクションジェネレータ、任意波形発生器などとしても使用できます。...出力チャンネル数:4ch(2ch*...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タートル工業
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PR瞬低・瞬断によるトラブルから機器を守るこの製品を「JECA FAIR …
『瞬時電圧低下補償装置 SB/VBシリーズ』は、 小型・軽量・省メンテを実現した、瞬低や瞬断の対策に役立つ装置です。 中容量の「VBシリーズ」は、UPSに比べて設置スペース・質量を大幅に低減できるため、 対策コストを大幅に削減できます。 【特長】 ■過電流耐量が大きく、変圧器突入電流・電動機始動電流にも耐える ■無瞬断の切り換えがスムーズ ■並列方式で、電源が瞬断しても対応可能 ■負荷側に回生...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社指月電機製作所
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ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
【仕様】 ■電源電圧:AC200V 三相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%) ■最大電流:250A ■運転可能周囲温度湿度:+5~+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm):394...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
独自技術HiTUSテクノロジー ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能!自動車のミラーなどの生産…
て「石」の役割を果たすのが、真空の容器 (真空チャンバー)内に充填されたアルゴン(Ar)などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速(秒速約3.2km) でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット...
メーカー・取り扱い企業: デクセリアルズ株式会社
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
O2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 ...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…
5以下に低減(1⇒0.06) 最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。 新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧力プラズマは成膜だけでなく基板表面のイオン窒化やエッチングにも応用されており、成膜前処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。 本装置(アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置)の...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…
導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも 可能です。 【事例概要】 ■納入先:地方独立行政法人大阪産業技術研究所様 ■納入製品:MS-3C100L型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大阪真空機器製作所
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
HEX/HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソー...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
ビームエネルギー:0–3keV ■ イオン電流密度:>300μA/cm2 ■ 高スパッタリングレート:200Å/min ■ ビーム径:2.5mm ■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ ■ イオンビームスキャニング機能: ■ DC偏向機能: ■ 自動出ガス機能: ■ 取付フランジ:ICF70 ■ 許容加熱温度:250℃...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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