EBSD（電子線後方散乱回折法）を利用した結晶解析とは

試料表面で生じる電子線後方散乱回析により金属など結晶性材料の結晶方位・…

EBSD分析とは、SEM（走査電子顕微鏡）と組み合わせて、金属結晶粒子の方位、微粒子化を解析する事で、問題点を顕在化させ、 設計・プロセス・材料の改善や、品質トラブルの未然防止に役立てることが出来ます。 また、 信頼性試験と組み合わせることにより、評価初期段階での歪み発生箇所の解明、破壊メカニズムの解明などに役立ちます。 【マッピングの例】 ■IQマップ 　パターンの良否により結晶性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

高信頼性基板

プリント配線板の心臓部（スルーホール、パターン形成、レジスト露光）の製…

『高信頼性基板』についてご紹介します。 パターン形成＆レジスト露光は、新工法DI（ダイレクトイメージャー）を 使用しL/S＝40/40μm、レジスト位置精度15μmを実現。 シルクもインクジェットをいち早く導入し、なんと文字高さ＝500μm、 文字幅＝90μm、位置精度20μmに成功しました。 当社は、多種多様な新装置や薬液の管理を徹底し、高信頼性基板を どこよりも早くお届...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社松和産業 本社

【分析事例】SNDMおよびSMMによる拡散層評価

SiCデバイスの拡散層のp/n極性とキャリア濃度分布を評価できます

ーパント活性化率には課題があり、出来栄え評価が重要となります。今回、SiC Trench MOSFETに関して、SNDM（走査 型非線形誘電率顕微鏡）にてキャリア極性判定をSMM（走査型マイクロ波顕微鏡法）にてキャリア濃度分布を評価した事例をご紹介します。　...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

バンドパスフィルター一覧

在庫販売で短納期！全品１個から販売

エドモンド・オプティクスは、広範な光学用バンドパスフィルターを、 一連のバンド幅オプションでご用意しています。 レーザーラインフィルターは、一般に2~5nmの狭いバンド幅を持ち、 要求の厳しいレーザーアプリケーション用に用いられます。 蛍光用フィルターは、励起と発光バンドのエネルギー透過を最大化するよう デザインされており、一般的に20~70nmの広いバンド幅を持ちます。 ...

メーカー・取り扱い企業： エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社