リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スペイシーケミカル株式会社　事業紹介

プラスチック焼結成型のパイオニア、スペイシーケミカル株式会社

【高分子多孔体の種類】 ○EL　低密度ポリエチレン →高密度ポリエチレンに比べ柔軟性がある →耐衝撃性、耐薬品性が良い ○EH　高密度ポリエチレン →耐薬品性に優れる →石油系にも使用可能 ○G　超高分子量ポリエチレン →耐薬品性、耐磨耗性に優...

メーカー・取り扱い企業： スペイシーケミカル株式会社 営業部