リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

HDPE　高密度ポリエチレン　成形

HDPEは高密度ポリエチレンと呼ばれ、LDPE低密度ポリエチレンと区別…

高密度ポリエチレンは硬質ポリエチレンとも呼ばれます。 　　　　 剛性があり、衝撃に強く、耐寒、耐水、耐薬品性もあり安価な素材です。 　　　　 インジェクション成形は生産効率が良く、大量生産向きです。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジカ工業

HDPE　ベースフィルター　射出成形

高密度ポリエチレンは射出成形材料として広く使われています。 ベースフ…

高密度、硬質ポリエチレンとも呼ばれ、剛性があり、衝撃に強く、耐寒、耐水、耐薬品性もあり安価な素材です。 　　　　 ろ過装置のフィルター部分のベースとなります。 上に重ねる不織布やスポンジフィルターもお任せください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジカ工業