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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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処理精度を向上!スライム処理を可視化し、品質の向上と安全施工を支援しま…
Slime』は、スライム処理の見える化を実現し、拡底 スライムの回収が可能です。 撹乱揚泥ポンプで拡径スライムを撹乱揚泥し、スライム処理精度を向上。 揚泥密度のリアルタイムモニタで、高密度安定液を部分置換、揚泥時間を 50%短縮します。 【特長】 ■スライム処理の見える化を実現 ■拡底スライムの回収が可能 ■揚泥深度・揚泥密度をリアルタイム・オンライン計測、スライム処...
メーカー・取り扱い企業: 大裕株式会社
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