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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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汚泥産廃費と電力代の削減を実現する排水処理設備のご提案!汚泥処理費が約…
【クラゲールの特長】 ■細菌を中心とした菌叢のため余剰汚泥発生量を抑制 ■細菌を高密度で保持するため高負荷運転が可能 ■高い有機物分解能力を生かし難分解性物質を処理 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 東洋セイバー株式会社
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資料進呈中!余剰汚泥発生量を抑制するクラゲールのご紹介
【クラゲールの特長】 ■細菌を中心とした菌叢のため余剰汚泥発生量を抑制 ■細菌を高密度で保持するため高負荷運転が可能 ■高い有機物分解能力を生かし難分解性物質を処理 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 東洋セイバー株式会社
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