リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

2Dレーザスキャナ『S-2100』

周囲に人がいる環境でも制約無く使用可能！リアルタイムにスキャンデータを…

『S-2100』は、スキャニング範囲が垂直方向に360°、測定範囲は119mまで 計測できる2Dレーザスキャナです。 1秒につき1,000,000点以上をスキャニング可能。対象物は高密度に 確実に記録され、適用性の高さ、低消費電力によりモバイルマッピング システムの構築に適しています。 また、近中距離の地上型3Dレーザスキャナ「S-3180V/S-3180」をはじめ、 ...

メーカー・取り扱い企業： TI アサヒ株式会社