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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高性能なのに低価格。幅広い読み取り範囲と業務運用に安心な堅牢設計で、あ…
■ 高密度に印刷された小さいバーコードの読み取りから、1m以上離れたバーコードの読み取りなど、さまざまな条件のバーコードの読み取りに1台で対応できます。読み取りにくい低品質バーコードの読み取りも抜群です。 ...
メーカー・取り扱い企業: ユタカ電気株式会社 東京営業所
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