リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

フォトグラメトリーソフトウェア「PIX4Dmatic」推奨モデル

画像処理の適用範囲が広がったフォトグラメトリーソフトウェアの動作推奨モ…

「PIX4Dmatic」は、新世代のドローンを利用するプロフェッショナルな 分野において、大量の撮影した画像から精確な高密度点群、数値標高モデル、 およびオルソモザイクを生成するためのSfMソフトウェアです。 プログラムの見直しにより、処理時間を大幅に改善。 当社では、「PIX4Dmatic」の動作推奨モ...

メーカー・取り扱い企業： アプライド株式会社