高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

電子機器の受託開発・設計（ハードウェア、FPGA、ソフトウェア）

PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。（一貫した開発から部分…

●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社画像技研

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LE...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

５相ステップモータドライバ　「５Ｄ０２」

高速トルク特性が良好な５相ステップモータドライバ

５２ｘ８０ｘ１５．５ｍｍ　・　２８ｇと超小型軽量です。 【特長】 ●５本結線方式で高効率 ●簡単配線のフラットケーブル用コネクタ使用 ●単一電源ＤＣ１２〜２４Ｖの広い電圧範囲 ●高速トルク特性が良好 ●基板挿入方式が可能（オプション）...

メーカー・取り扱い企業： ピー・ピー・エス有限会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

５相ＡＣ電源マイクロステップモータドライバ　「５Ｄ１ＡＭ」

５相ＡＣ電源マイクロステップモータドライバ　「５Ｄ１ＡＭ」

【特長】 ●高速トルク強化回路内蔵 ●５本リードモータ対応 ●カンタン配線で取り付け方向が自由 ●ほとんどの５相モーターに対応...

メーカー・取り扱い企業： ピー・ピー・エス有限会社

Roll to Roll Sputtering System

Flexible Display用など機能性Film製造用Coatin…

Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ