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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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面倒な電解質の添加やpH調整等が不要!蒸留した試料水をそのまま電解濃縮…
が、設定可能最大電流値で 電解濃縮した場合、約60時間で1,000mlの試料水を50mlに濃縮することが可能です。 【特長】 ■操作性 ■時間短縮 ■安全性 ■監視作業が不要 ■高電流密度運転が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: デノラ・ペルメレック株式会社
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