• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 『アルマイト処理の受託サービス』 製品画像

    『アルマイト処理の受託サービス』

    PR2700×650×1250mmの大型品や、400kgまでの重量物に対応…

    当社は『アルマイト処理』を行うための工場を保有し、超大型の電解槽で 様々な形状・サイズのアルマイト処理を行っています。 高電流・高電圧のアルマイト処理で、鋳物・ダイキャスト製品への 均一な処理が可能。通電が必要な箇所はマスキング対応が可能です。 例えば、1250×2500mmのアルミ板材や、1個400kgの印刷ロールなどの 処理が容易に行え、治具の種類も豊富で複雑形状にも対応でき...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富商 本社

  • 高耐圧AlGaN/GaN HEMTのモデリング 製品画像

    高耐圧AlGaN/GaN HEMTのモデリング

    高耐圧AlGaN/GaN HEMTのデバイス構造に関するデバイス解析ツ…

    マグネシウム層構造(magnesium layer structure)を持つ高いブレークダウン電圧(breakdown voltage)のAlGaN/GaN HEMTをシミュレーション。マグネシウム(Mg)層の長さおよびそのドーピング密度を最適化することで900Vのブレークダウン電圧を達成。(具体的にマグネシウム層の長さ、ドーピング密度と移動領域(drift region length)の長さを...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高出力SCOWLレーザのシミュレータ 製品画像

    高出力SCOWLレーザのシミュレータ

    スラブ結合光導波路レーザの解析ツール

    クラマース・クローニヒの方程式を用いた屈折率変化のメカニズムの温度依存や自由電子/プラズマモデルが妥当な結果を与える。LASTIPはLASTIPはSCOWLタイプの高出力レーザーにおいて横モードの振舞いの正確な見積を提供する。長い共振器のようなさらに踏込んだ解析には、軸方向空間ホールバーニング(longitudinal spatial hole burning)と端面光ダメージ効果(facet o...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高輝度発光ダイオードデバイスシミュレータ 製品画像

    高輝度発光ダイオードデバイスシミュレータ

    高輝度発光ダイオード(SLED)の3次元モデリングツール

    グリーン関数(Green's function)理論に基づく理論モデルを解説。テストデバイスを用いて解析。(横モード(lateral mode)のプロファイル 利得(gain) バンド図(band diagram) 異なる注入におけるキャリア分布 空間的ホールバーニング(spatial hole burning) I-V特性(I-V curve) L-I(L-I curve) 自然発光の強度(am...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高応力GaNデバイスの研究ツール 製品画像

    高応力GaNデバイスの研究ツール

    高応力GaNデバイスの研究ツール

    高応力(higly stressed)がかかるGaN多重量子井戸(MQW)の理論モデルを解説。クロスライトのデバイスシミュレーターでシリコン上に任意の結晶方向(crystal orientations)に成長したGaNデバイスLEDについて次のような結果を得ることが可能。シリコン基板からの張力(tensile)は多重量子井戸(MQW)のバンドギャップ(band gap)を減少し波長が長くなる。多重...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高耐圧MOSFETの2/3次元シミュレータ 製品画像

    高耐圧MOSFETの2/3次元シミュレータ

    ハイボルテージMOSFETの2/3次元デバイス解析ツール

    ハイボルテージ(High Voltage) MOSFETを題材に2次元/3次元シミュレーションを紹介。内容:プロセスシミュレーターCSupremとデバイスシミュレーターAPSYSのモデルを概観、プロセスシミュレーションについて解説、300V LDMOSのブレークダウン(Breakdown)の解析、フローティングゲート(floating gates)の3次元シミュレーション、ハイブリッドIGBT(h...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • バンド内遷移トンネル効果の解析シミュレータ 製品画像

    バンド内遷移トンネル効果の解析シミュレータ

    ヘテロ接合に対するトンネル効果のモデルによる解析ツール

    量子トンネリング(quantum tunneling model)モデルは高ドーピングレベル(high doping level)においてキャリア輸送(carrier transport)への影響を無視できない。アルミ(Al)組成割合変化(composition grading)は、ポテンシャル障壁(potential barrier)の平坦化によって擬似的な量子トンネル効果(mimic quan...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 熱設計支援ツール『FloTHERM』ジュール発熱解析機能について 製品画像

    熱設計支援ツール『FloTHERM』ジュール発熱解析機能について

    配線の微小化や電流量の増大によるジュール発熱の影響を考慮した高精度な解…

    『FloTHERM』は、電子機器専用の熱設計支援ツールです。 当製品の「ジュール発熱解析機能」は、配線の微小化や電流量の 増大による、ジュール発熱の影響を考慮した高精度な熱流体解析を行うことができます。 また「HyperLynx PI」の発熱密度を使用した解析も可能です。 【特長】 ■ジュール発熱の影響を考慮した高精度な熱流体解析 ■ソース部品に電流境界条件を設定し、電流密度を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社IDAJ

  • 模擬電源『MODEL 62000H-Sシリーズ』 製品画像

    模擬電源『MODEL 62000H-Sシリーズ』

    高速&高精度の100kHzデジタル測定回路!ソーラーアレイシミュレータ…

    『MODEL 62000H-Sシリーズ』は、Voc、Isc、Vmp、Impなどのパラメータにより、 様々な太陽電池素材のI-V特性出力を高速にシミュレーションできる製品です。 100パターンのI-V曲線をメモリに保存でき、曲線のシミュレート時間を 1-15,000秒まで設定することが可能。日出から日没までのI-V曲線を忠実に 再現できます。 また、16bitで高精度に計測された電...

    メーカー・取り扱い企業: クロマジャパン株式会社

  • バッテリーセルシミュレータBCS-P5 製品画像

    バッテリーセルシミュレータBCS-P5

    低ノイズレベルリニアタイプバッテリーセルシミュレータ

    ・リニアタイプ -リップルとノイズの少ないスイッチングタイプに比べて優れた品質 ・mVレベルの精度と精度 ・低ノイズレベル -ACノイズと高周波ノイズをブロック ・高解像度 ・最大256セル。 個別に絶縁、直列接続(最大1000V) ・イーサネット制御通信 ...出力電圧:0〜5V 分解能:77uV 精度:±1mV 最大電流:500mA 絶縁:1000V インターフェ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

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