リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

光ＭＥＭＳスキャナシステム開発

小型、省電力、長寿命。コンパクト設計での生産ラインに最適です。

光ＭＥＭＳスキャナシステムは小型、省電力、長寿命と従来の機械スキャナに無い特徴を持っています。また１次元だけでなく２次元も１ユニットで構成でき、ディスプレイ、計測への応用が可能です。詳しくはお問い合わせ、ま...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社

ＭＥＭＳ　スキャナ計測システム　ＡＬＴ-9Ａ44

ＭＥＭＳスキャナ計測システム　ＡＬＴ-9Ａ44

ＭＥＭＳ光学スキャナの光学電気特性を測定する 『ＭＥＭＳスキャナ計測システム　ＡＴＬ-9A44』のご案内です。 【特長】 ・ＭＥＭＳ光学スキャナの光学・電気特性を測定 ・レゾナントタイプの共振特性やドリフトも測定可能 ・最大振り角計測には新方式の時間計測方式で検査タクトの短縮化 ・インターフェースは電磁駆動方式、静電駆動方式、ピエゾ方式のいずれも可能 ・コンパクト設計でインライン検査に...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社