リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

膜厚調整トリミング装置

独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。

原理：DCベースイオンミリング 特徴： シンプルで頑丈な構造 素早い反応時間（切削量に応じて） ０エッチング可能 DCベースソース（グリッドレス、フィラメントレス）でシンプルなメンテナンス ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

エネルギー『マイクロ波』

食品加工・電機業界や先進医療・製薬業界など！新エネルギーをご紹介

エネルギーです。 電子レンジの場合、食品加工・電機業界では、きめ細やかな制御が 可能なため温めたい物のみ加熱することが可能。 半導体製造装置のプラズマエッチングの場合は、低い入射イオンエネルギー で損傷の少ない垂直エッチングを行うことができます。 【特長】 ■長寿命 ■高い安定性 ■コンパクト ■細やかな制御 ■高純度 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： アイ電子株式会社

マイクロ粒子のシート化技術

【技術の実用化に向けて協力企業を募集中！】 導電性フィルムや、全固体…

レスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技術により実現されます。 （特許 第7324517号） マイクロ粒子として導電粒子を使えば導...

メーカー・取り扱い企業： 日榮新化株式会社

凌和電子株式会社『会社紹介』

FA製品・システムなどの開発・設計・製造をトータルエンジニアリングいた…

【自社製品紹介】 ■リチウムイオン充放電試験装置（開発中） ■超高周波透磁率測定装置「PMM-9G1」 ■超高周波帯域透磁率測定装置「PERMEANCE METER/PMF-3000」 ■巻数比／極性テスター「PATIO M...

メーカー・取り扱い企業： 凌和電子株式会社

特殊製品「ディスペンサカソード」

電子ビームの熱電子源としてX線産業、マイクロ派管産業で貢献

ドは、高出力X線管の新しいアプリケーションと共に、進行波管やクライストロン等の様々なマイクロ波管向けの最適な部品です。 直熱陰極（カソード）－フィラメント、コイル、スパイラル、フラッシュランプとイオンレーザー向けの電子源として働きます。 伝導率と熱膨張において、様々な密度特性と異なる性質を持つ金属複合材です。 高出力マイクロエレクトロニクスと半導体レーザー産業における熱放散と拡張マッチング...

メーカー・取り扱い企業： サエス・ゲッターズ・エス・ピー・エー 日本支店