リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用！ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5％RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア（マグネットパッキン式）で、中央支柱がないので、 横長のもの...

メーカー・取り扱い企業： トーリ・ハン株式会社

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

イオン注入に豊富な実績。カーボン加工品のご紹介です

高純度を要求される半導体製造工程でのイオン注入には多数のカーボンが使用…

高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。 ...高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件で緻密で高品質な成膜が可能 ダブルイオン源構造となり、高精度な制御が可能 Real-timeでスペクトル分析機能を備える 同一チャンバーでIBD、IBEを両立...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

『CARBOZEN　ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。 リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

【基礎知識】フッ素樹脂チューブライニングとは？

フッ素樹脂チューブライニングとは、金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブ（…

金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブライニングをすることにより、撥水性・耐薬品性・イオンの溶出を防止することが可能です。 【製品の特長】 ○ルーズライニングとは違い、パイプとフッ素樹脂が完全に接着した状態のライニングが可能です。 ○接着により熱伝導性に優れています。ライニン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

中古半導体製造装置

中古半導体製造装置

、リファビッシュ(再生)、販売、立上業務 ・主な取り扱い中古装置 　露光機（Ｓｔｅｐｐｅｒ、Ａｌｉｇｎｅｒ） 　ＣＶＤ装置、ＰＶＤ装置 　蒸着機、洗浄機、エッチング装置 　拡散炉、イオン注入機 　測定・計測器、 　後工程装置（ダイサー、ワイヤーボンダー） 装置在庫の確認、お見積もり、査定等についてお気軽にご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（ICF70）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

フッ素樹脂コーティングの特性　耐蝕性、（耐薬品性、耐腐食性）

他の樹脂コーティングでは得る事の出来ない、耐熱性、非粘着性、耐摩耗性、…

基材耐久性向上、金属イオン防止、高純度維持などの効果を得ることが可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部