水質改善器具『アクアクリスタルリング』※経済効果と環境性能が両立

PR冷却塔のスケール除去や熱交換器のスケール付着防止・防サビに！経済効果と…

水質改善器具『アクアクリスタルリング（ACR）』は、直径100mm、厚さ30mmのドーナツ型樹脂製容器に、発電能力の高い特殊な水を封入した水質改善器具です。 水中で揺れると、最大で0.2V程度の電圧を発生させて周囲の水を改質。 外部エネルギーを必要としない新しい水処理の器具です。 薬品よりも浄水能力が高く、ランニングコストが不要。 配管やタンク・機器類の延命に貢献します。 【...

メーカー・取り扱い企業： 重松テック株式会社

メンブレンタイプフィルター『アンドロメダシリーズ』

PR非対称構造で高流量・低圧損・長寿命！超純水製造にも！非対称構造のポリエ…

『アンドロメダシリーズ』は、 非対称構造のポリエーテルサルフォンメンブレンフィルターです。 非対称構造のため空隙率が高く、高流量・低圧損・ロングライフを実現。 流出物が少なく、少量のリンスアップで非抵抗値が回復します。 超純水製造アプリケーションや、プロセス水の無菌化に適しています。 また、スチーム滅菌対応タイプもラインアップしています。 【特長】 ■高流量 ■低圧損 ...

メーカー・取り扱い企業： ワイエスフィルタージャパン株式会社

フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをする...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応　クリーンベーク装置）

３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

囲気（N2）中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。３００ｍｍウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MP...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社