ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』

PR小型・軽量で高効率！手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介

ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1～5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1～5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献

PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

加熱・化学反応用 2450MHz/3kWマイクロ波電源（空冷）

マイクロ波加熱・マイクロ波化学反応といった用途のために価格を抑えたマイ…

本製品は、周波数２４５０ＭＨｚのマイクロ波を発生する装置で、高電圧発生電源/マグネトロン発振部/接続ケーブルによって構成されます。最大出力は３０００Ｗで、マイクロ波加熱・マイクロ波化学反応といった用途のために、プラズマ用ＭＰＳ−３０Ｗ−ＤＣをデチューンし、価格を抑えました。 検波器付き方向性結合器との組み合わせによって、フィードバック制御による安定したマイクロ波...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッシン

加熱・化学反応用 2450MHz/3kWマイクロ波電源（水冷）

マイクロ波加熱・マイクロ波化学反応といった用途のための低価格マイクロ波…

本製品は、周波数２４５０ＭＨｚのマイクロ波を発生する装置で、高電圧発生電源/マグネトロン発振部/接続ケーブルによって構成されます。最大出力は３０００Ｗで、マイクロ波加熱・マイクロ波化学反応といった用途のために、プラズマ用ＭＰＳ−３０Ｗ−ＤＣをデチューンし、価格を抑えました。 検波器付き方向性結合器との組み合わせによって、フィードバック制御による安定したマイクロ波...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッシン

加熱・化学反応用 2450MHz/1.5kWマイクロ波電源

コストが重視される加熱用途向けマイクロ波電源

本製品は、周波数２４５０ＭＨｚのマイクロ波を発生する装置で、電源部/発振部一体型となります。 プラズマ励起用であるＭＰＳ−１５Ｄをデチューンし、コストを重視される加熱用途向けとしました。 最大出力は１５００Ｗ。空冷式。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッシン

核融合発電装置(プラズマ加熱装置)の概要

絶縁体膜によって覆われた円筒形の密閉型容器！重水素ガスではなく軽水素ガ…

当社では、実証実験装置『核融合発電装置(プラズマ加熱装置)』の製作及び 加熱実験を行っていただける共同研究者を募集しています。 内面をフッ素樹脂などの絶縁体膜によって覆われた円筒形の密閉型容器を、 高圧電源の印加によってマイナスに帯電させ、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社センリョウ

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

新開発　半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯　130W 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力：〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラ...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

プラズマ技術を用いた小型設備

プラズマ技術を含むシステム・設備にも対応致します。

連続処理　　 大気圧プラズマによる一次処理　　 プラズマ照射位置の調整可 ◇スプレーコーターによる二次処理　　 塗布量調整可　　 スプレー位置の調整可 ◇ヒーター加熱による三次処理　　 加熱温度調整可　　 ヒーターとフィルムの距離調整可 仕様についてはお気軽にご相談下さい。また、弊社技術スタッフによる実験をご要望の方はオプション料金にて対応さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

て 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

標準仕様 ステージ寸法：２５０ｍｍ□　エッチング方式：ＲＩＥ　ＣＦ系ガス標準 シンプルな機構でＲＩＥ／ＤＰモード切替可能 ステージ温度制御（水冷／加熱）選択可能　 ステージ寸法大型化（最大５００ｍｍ□）対応可能　...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマ窒化装置　鉄鋼材料の耐摩耗性・潤滑性・離型性の向上

変寸のない低温処理で、後工程を減らし、貴社製品の長寿命化に貢献します。

水素・窒素雰囲気中で処理部品を陰極、炉壁を陽極として電圧を印加してグロー放電を発生させ、表面に窒化層を形成させる方式です。歪みが少なく、後工程が不要となります。 【特徴】 ■３ゾーンに別れた加熱・冷却制御で優れた温度均一性 ■温度分布が優れているので混載・量産処理可能 ■直接ワークピースを測温することで信頼性の高い温度制御を実現 ■ウィンドウズベースの簡単操作 ■低温処理（３５０℃...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

プラズマ窒化装置　鉄鋼材料の耐摩耗性・潤滑性・離型性の向上

変寸のない低温処理で、後工程を減らし、貴社製品の長寿命化に貢献します。

○ホットウォール方式　○３ゾーンに別れた加熱・冷却制御で優れた温度均一性　○温度分布が優れているので混載・量産処理可能○直接ワークピースを測温することで信頼性の高い温度制御を実現○高速アーク遮断の両極パルスプラズマ電源　○ウィンドウズベースの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社