ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』

PR小型・軽量で高効率！手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介

ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1～5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1～5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

接着・接合EXPO出展！OEM加工や高周波ウエルダーの相談受付

PR高周波トランジスター式ウェルダー『YRP－400T』を第8回「接着・接…

高周波トランジスター式ウェルダー『YRP－400T‐RC型』は、ハーネス加工やチューブ溶着・ボート溶着など小型で精密性を要する加工に適した高周波装置です。　 装置が軽量・小型なので、レイアウトの自由度も拡がり、スムーズで無駄のない動きを実現いたします。　 【特長】 ■予熱不要で即動作可能！ ■ソリッドステート高周波発振器を搭載 ■加熱コントロールをフィードバック制御 ■加圧に電動シ...

メーカー・取り扱い企業： 山本ビニター株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルに...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　RADAK

有機物蒸着にも対応。　コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

高品質薄膜フィルターメーカーLUXEL社は、真空蒸着にお使い頂ける、抵抗加熱型蒸着源(エバポレーター)を提供しております。 使いやすさ、パフォーマンスを考慮した独自のデザインで構成されており、既存の蒸着装置への導入が可能。コンパクトで取扱いが簡単なため、実験用に最適です。...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構　 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム　 ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

TMPタイプ　真空蒸着装置

簡単操作のTMP排気システム採用！拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…

「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP＋RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着とは

ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術！真空蒸着の原理についてご紹…

『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奈良原産業

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

６連式電子銃と移動式多元抵抗加熱蒸発源を装備したバッチ式高真空蒸着装置 標準ウェハプロセス対応蒸着装置よりチャンバ径をコンパクト化し小径ウェハに対応。 リフトオフプロセスに対応した垂直蒸着用の公転ドームと大量処理用の３面プラネ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト　全てカスタマイズＯＫ 社内デモ機でプロセステストも対応　幅広く柔軟なハード＆サポート　 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

） ◉ チャンバ：SUS304製 UHV対応（*090はスライドドア式, 背面メンテナンスドア） ◉ 19inch制御ラックは作業ベンチ下に収納 ◉ MLチャンバー内成膜モジュール： ・抵抗加熱蒸着源（最大4源） ・有機蒸着源（最大4源） ・Φ2"マグネトロンカソード（最大3基） ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

斜入射型蒸着装置

基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを…

た基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。 ・電子銃＋反射電子トラップ、またはボンバード蒸着減により、低温・低ダメージ蒸着が可能。特にレジストを用いるリフトオフ蒸着に有効。 ・ア...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-60310BDS ボンバード蒸着源

ダメージレス蒸着

日本電子株式会社 BS-60310BDS ボンバード蒸着源 蒸着材料を充填したライナーの裏面に、電子ビームを照射し、電子衝撃 (ボンバード) によりライナーを加熱します。蒸着材料には直接電子ビームを当てません。 〇特長 ・間接加熱方式 ・成膜中の反射電子ダメージとX線ダメージなし ・スプラッシュが抑制され、低欠陥成膜可能 ・分解・組成ずれなし ・光学吸収が...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

蒸着関連用品・・・抵抗加熱ボード、電子銃用フィラメントなど

弊社は蒸着材料の製造・販売のみならず、蒸着関連用品も各種取り扱っており…

取り扱い製品 ●抵抗加熱ボート 　・タングステン 　・モリブデン 　・タンタル　etc. ●電子銃用フィラメント ●各種ハースライナー ●モニターガラス ※詳しくは、当社ホームページのお問合せフォームより...

メーカー・取り扱い企業： キヤノンオプトロン株式会社 本社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

簡易実験用蒸着装置（ＥＭ－６４５型）

シンプル　コンパクト　高機能　実験、基礎研究に最適　ユーザーニーズに応…

標準２元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ２～３インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

高真空蒸着装置『RD-1230』は、ぺロブスカイト太陽電池電極作成用 小型蒸着装置です。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けること...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■基板加熱温度：700℃（基板表面） ■蒸着材料：金属または酸化物 ■真空排気：CP+DP ■膜厚コントロール：水晶式膜厚センサ ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

高真空蒸着装置『KW-030D』

水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

ミニチュアエバポレータ

UHV対応の小型蒸発源です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に…

超高真空対応の小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃加熱に比較して小型です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。...

メーカー・取り扱い企業： アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

リニア有機材料蒸着器『LOE』

デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計！蒸発物および基板への熱影…

、密閉したルツボから熱により有機材料を蒸発させる コンポーネントです。 デリケートな有機材料の処理に最適化した熱設計が、蒸発物および基板への 熱影響を最小限に抑制。その蒸気は、基板へ通じる加熱パイプを通って供給され、 リニアノズルアレイから基板に放出されます。 有機蒸気に接触するすべての部品、特にルツボとノズルパイプは、有機 EL材料に対して全く不活性なセラミックでできています...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

分子線エピタキシー（MBE）装置

コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。

●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（クヌーセン・セル）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

金属蒸着装置『ESE-09』

容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能！大規模集積回路用の装置で…

『ESE-09』は、高真空領域での使用を目的とした抵抗加熱式の蒸着装置です。 アルミ蒸着も想定してBNコンポジットの選択が可能。また、チャンバ開閉は 上下分割駆動式で、ウェハを公転させる機能を装備しています。 なお、排気系はドライな真空状態を得るために...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

熱蒸着装置『EVAD シリーズ』

金属、誘電及び有機膜成膜！熱蒸着装置をご紹介

当社で取り扱う『EVAD シリーズ』をご紹介いたします。 当製品はPID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜の熱蒸着装置。 また、電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜 ■PID温度制御された低温蒸着...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　OLED

有機EL等の有機薄膜デバイスの開発に最適、抵抗加熱型蒸着源

高品質薄膜フィルターメーカーのLUXEL社は、真空蒸着用にお使い頂ける、抵抗加熱型蒸着源(エバポレーター)を提供しております。 低温蒸着用ですので、有機EL等の有機薄膜デバイスの開発に適しています。また、コンパクトで取扱いが簡単なため、実験用に最適です。 ★ラインナップ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー ・026（26Litter）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

◆◇◆対処法◆◇◆ 金属蒸着セル・KMDW-Cellを提案した。この蒸着セルは、ルツボ式であり、 タングステンフィラメントを通電加熱することにより蒸着させる機能を有している。 ルツボ容量は、1ccである為、厚膜作製には向かないが、省スペースに多元設置可能な 設計である。ルツボ構成に、コールドリップ方式を採用している為、 材...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ

分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！

蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者...

メーカー・取り扱い企業： 河合光学株式会社

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ポリパラキシレン蒸着成膜装置

ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…

チレン）は生体適合性に優れており、FDA認証も取得しております。 ・成膜プロセス:コーティングは、専用の真空蒸着装置を用い、室温にて実施されます。ダイマーと呼ばれる固体の顆粒状原材料を真空下で加熱すると、気化してダイマー気体となります。 この気体が熱分解してダイマーが開裂し、モノマー形態になり、室温の蒸着チャンバ内で、このモノマー気体がすべての表面で重合し、薄く透明なポリマーフィルムが形成さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、 化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラッ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

有機デバイス蒸着装置　真空エリプソメーター蒸着装置

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！

0度/140度） ○アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：Φ96ｍｍ） ○外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

光学特性をリアルタイムに測定「真空エリプソメーター蒸着装置」

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定できるエリプソメトリー用蒸着装…

アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：φ96mm） →外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート →真空廃棄ポート（NW40）1ポート ○基板ホルダー構造 →最大基板サイズ：φ110mm →基板加熱もしくは基板冷却構造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー