• 簡単導入!電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』 製品画像

    簡単導入!電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』

    PR【使用開始にあたり特別な準備やトレーニングが不要!】シンプルな画面構成…

    電子実験ノート 『 BIOVIA Notebook 』は簡単に導入・運用できるELN/電子実験ノートで、研究開発部門のDX化推進に好適なツールです。 実験業務において、研究開発のスピードUP、コスト削減、 組織間情報共有を実現することで研究開発でのイノベーションを促進します。 過去には数億円規模でのコストダウンや4,000ユーザの運用でも専任不要の実績がございます。 また BIOVIA Note...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • Y形3方ボールバルブ 製品画像

    Y形3方ボールバルブ

    PR流路にアルミナセラミックスリーブを採用し、耐摩耗性を強化しました。金属…

    特長 ■空気輸送用に開発された3方ボールバルブで、圧力損失が少ない構造です。 ■流路にはアルミナセラミックスリーブを採用し、耐摩耗性を強化、金属コンタミも防ぎます。 ■スリーブ方式のため剝離しにくく、かつ異なる内径の組み合わせて流れ方向の凸部をなくしました。 ■シートリングには強化PTFEを採用し、アルミナセラミックカラーで流路から隔離しています。 ■インレットブランチとアウトレットブラ...

    メーカー・取り扱い企業: アイシン産業株式会社

  • 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)

    大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

    水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...6インチウェハ対応の石英管の横型...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」 製品画像

    薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

    半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

    研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」...◉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2400℃(メタル炉) ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置) 製品画像

    ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

    300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

    真空置換後の低酸素雰囲気(N2)中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。300mmウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...低酸素雰囲気中で熱風加熱。温度均一性とクリーンネスを両立。先端デバイスの量産ラインで採用実績豊富な高信頼性装置。 半導体用ポリイミドキュアだけ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 『フラックス「ポタ落ち」おまもりフィルター』 製品画像

    『フラックス「ポタ落ち」おまもりフィルター』

    基板にポタっと落ちるフラックスをキャッチ!廃棄基板の削減に。繰り返し使…

    当社では本製品以外にもスクリーンマスクや搬送用パレットなど 電子部品実装で活躍する製品を幅広く取り扱っております。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トーヨーコーポレーション

  • 加圧RTA装置 製品画像

    加圧RTA装置

    基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!

    まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9M...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • クリーンプロセス向け高純度セラミックスヒーター 製品画像

    クリーンプロセス向け高純度セラミックスヒーター

    研究所や電子産業に最適!クリーンプロセスでの高温発熱体

    特殊セラミックス部品、半導体製造プロセスにおいて求められる高純度な発熱体です。...□■特徴■□ ■発熱体最高使用温度:1800℃ ■クリーンプロセスで使用される高温セラミックス発熱体 ■発熱体の保護皮膜の剥離は最小限 ■母材に含まれる金属不純物含有量を極限まで低減 ->発熱体から炉内雰囲気中への拡散を抑える ■全出荷品に対して鉄、ニッケル、銅などの含有量を記載した 成分証明書の発行...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • スーパータル シングルウェハーリアクター 製品画像

    スーパータル シングルウェハーリアクター

    電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

    従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ:SWR...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • RTA装置 製品画像

    RTA装置

    トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

    0.9MPaG)まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

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