工場内のお困り事を解決！一般型から恒温恒湿型クリーンルーム等対応

PR現場状況、お客様のニーズに合わせたオーダーメイドのクリーン環境をご提案…

当社ではクリーンルームの設計施工を軸に各種工事を行っています。 管工事・電気工事・計装工事・内装工事を中心に清浄度クラス1〜クラス100000にまで対応したクリーンルームや、恒温恒湿型クリーンルームなどの設計施工からアフターメンテナンスまで一貫して対応致します。 工場内での様々なお困り事などを解決するお手伝いをさせて頂きます。 詳しい施工事例などはお気軽にお問合せ下さい。 【お客様...

メーカー・取り扱い企業： 関計株式会社

ロールtoロールレーザー加工機『MX』／レーザー切断機『BX』

PR生地の表面に様々なデザインが施せるロールtoロール加工機や、レーザーマ…

当社は、OT-LAS社製のレーザー加工機を取り扱っています。 その中から、高出力・高ピークパワーが求められるような場面で活躍する El.En.社のCO2レーザーを搭載した2製品をご紹介いたします。 『MX（ロールtoロールレーザー加工機）』 ポリエステル、マイクロファイバー、シルク、ジーンズ、 コットン、ビスコース繊維など様々な種類の布地を ロールtoロールで連続的に加工できる...

メーカー・取り扱い企業： カンタム・ウシカタ株式会社

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 　 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 　 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

ソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とする...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

ド） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30nm（QXモード） ■ポジション精度:40nm(QXモード） ■最大描画エリア：228mm x 228mm(オプション　最大400mm x 400mm) ■マスク用オートローダー ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社