• 超音波式ガス濃度計『US-IIH』 ※消耗備品が無く長寿命 製品画像

    超音波式ガス濃度計『US-IIH』 ※消耗備品が無く長寿命

    PR高価なHeを希釈して使用したいユーザー様におすすめ!従来最高級機種の廉…

    高濃度He計『US-IIH』は検出器に高電圧用超音波素子を使用したガス濃度計です。 混合ガス中の音速、温度を測定して当社独自の演算を行い、濃度表示、 出力をします。従来1機種のみでしか測定できなかったHeガス50~ 100%を廉価版で測定可能にしました。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高級機種US-IIT-SHの廉価版 ■超音波式のため...

    メーカー・取り扱い企業: 第一熱研株式会社

  • 新型チルドタワー、常時チラー運転より約54%の年間電力費ダウン 製品画像

    新型チルドタワー、常時チラー運転より約54%の年間電力費ダウン

    PR生産プロセス、データセンター空調、DLCサーバーの冷却水用に 現行機よ…

    新型の機種は、「チルドタワー CTSーA075M」です。新型のカタログ請求はお問い合わせからご請求をお願いします。掲載のカタログは現行機種です。新型チルドタワーはチラーとドライクーラーを一体化させた構造で、春夏秋冬、朝昼夜の外気温度条件に適したハイブリッド運転を行います。必要な冷水温度(10℃~30℃)を設定すれば、省電力で安定した冷水を自動供給します。また、新型チルドタワーは、新冷凍サイクルでC...

    • 画像9051.jpg
    • 画像09054.jpg
    • 画像09053.jpg
    • 画像09054png.jpg
    • 画像911.png
    • 画像910.png
    • ss-画像09116png.jpg
    • ss-画像09119.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 桑名金属工業株式会社

  • マイクロ波ラジカル源 EMRS-211Q 製品画像

    マイクロ波ラジカル源 EMRS-211Q

    マイクロ波ラジカル源 EMRS-211Q

    石英放電管タイプでチャンバー外付型の 有磁場型マイクロ波励起ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など  各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源(オプション)の  使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため  面倒な...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 縦型減圧CVD装置 製品画像

    縦型減圧CVD装置

    10種類以上の半導体ガスを自在にコントロール可能!カスタマイズ可能

    縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。 【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能によりナチュラル酸化を低減 ■常温~900℃まで安定した温度コントロールを実現 ※...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハイテクノサービス

  • ヒューズテクノネット ガスコントロールユニット集積タイプ 製品画像

    ヒューズテクノネット ガスコントロールユニット集積タイプ

    ガスコントロールユニット集積タイプで、ガス漏れを監視します

    半導体、液晶工場向け装置ガス、液体材料供給システムの設計、製作を行っております。...【特徴】 ○ガス漏れを防ぐ ○集積タイプ ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒューズテクノネット

  • RFラジカルビーム源 IRFS-503 製品画像

    RFラジカルビーム源 IRFS-503

    RFラジカルビーム源 IRFS-503

    放電部、引き出し部は高純度PBNで製作され 活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることが可能な、ラジカルビーム源 【特徴】 ○ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し  差圧によりフラックスを引き出す ○放電が目視確認できるビューポートを標準装置  発光モニターや分光器を使用して、放電状態・励起状態を確認できる ○...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 空圧制御式 薬液供給装置『AID-S100』※特許出願中 製品画像

    空圧制御式 薬液供給装置『AID-S100』※特許出願中

    電源を使わず薬液圧送!小型で運搬・設置もラクラク。高純度試薬・EL級薬…

    『AID-S100』は、研究・試作などで使用する薬液の供給装置です。 窒素やアルゴンなどの不活性ガスを動力に使うため、電源は一切不要! 脱水溶媒などの高純度試薬や、ELグレードの薬品にも対応しているほか、 コンパクトな筐体で、運搬・設置がラクに行えます。 【特長】 ■一般室から防爆エリアまで対応 ■本体背面に動力用の加圧ボンベを収納可能(オプション) ■安全機能も搭載 ■特...

    メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部

  • ヒューズテクノネット 透明導電膜加湿ユニット 製品画像

    ヒューズテクノネット 透明導電膜加湿ユニット

    H2Oを加温気化し、マスフローコントローラーで流量制御し、エッチング装…

    加湿タンク内でN2ガスをバブリング、マスフローコントローラーで安定制御、温調器でプロセスラインベーキング制御、各炉へ安定供給します。...【特徴】 ○タンク制御温度・・・・・・・・60~65℃(センサーPT100Ω) ○配管制御温度・・・・・・・・・70~75℃(センサーPT100Ω) ○タンク・配管温度異常・・・・110℃(センサーサーモスイッチ) ○H2Oタンク水位検知用に、H・Mレベ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒューズテクノネット

  • ジャパンエコテック ヒートレスドライヤー 製品画像

    ジャパンエコテック ヒートレスドライヤー

    AMLOC装置により、再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置

    -73℃という低い露点温度がえられます。AMLOC装置により、再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置。...【特徴】 ○-73℃という低い露点温度 ○再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置 ○半導体製造のN2ガスの代用 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジャパンエコテック

  • 高速フレーム溶射装置『Met-PCC(HVOF)』 製品画像

    高速フレーム溶射装置『Met-PCC(HVOF)』

    インテルデュアルアトムプロセッサーを搭載!操作性・統合性・伝達性に優れ…

    『Met-PCC(HVOF)』は、メタライゼーション社以外のガス燃料HVOFガンと つなぐことができる高速フレーム溶射装置です。 インタフェースはインテルデュアルアトムプロセッサーを搭載した タッチスクリーンのウィンドウズのプラットフォームで機能。 ガスと液体に関して、皮膜の好適な連続性の為に質量流量ですべて 制御されており、すべての溶射パラメーターで装置のリアルタイムの 動向...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

  • 高速炭酸脱気装置 クイックDe-Gas 製品画像

    高速炭酸脱気装置 クイックDe-Gas

    3分で炭酸を完全脱気!成分検査の工程を大幅短縮します!

    炭酸飲料の成分検査に欠かせない炭酸脱気作業。工程は、時間がかかるとサンプルの成分にも影響があるため、迅速な作業が必要となります。クイックDe-Gasは、攪拌と減圧及びエアレ-ションを組み合わせ短時間に効率よく炭酸ガスを脱気する装置です。例えば、200mlのコーラなら約3分で完全に脱気できます。 またサチュレ-ションボトルを使用すれば、アルコール等揮発性の高い成分の蒸散を抑え、迅速に脱気できます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ビクスル

  • UV(紫外線)硬化装置|高圧水銀ランプ仕様「UVC-408」 製品画像

    UV(紫外線)硬化装置|高圧水銀ランプ仕様「UVC-408」

    小型・軽量・小フットプリント装置

    ワークを回転させながら照射させるため、 ウェーハー全領域に均一な照射を行なう事ができるUVフィルム硬化装置...■主な特長 ・独自の高効率、小流量N2パージ機能が搭載 ・N2の使用量が従来装置と比べてはるかに少なく、しかも確実な置換効果が得られる ・低消費電力化、微量なガス消費など、装置のランニングコストの低減に 大きく貢献するばかりでなく、装置コストの削減、高価なクリーンルームの設...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノビジョン 本社

16〜25 件 / 全 25 件
表示件数
15件