ガス機能 | イプロスものづくり

PR先行機種と比較し造形面積が約4倍になり、またブルーレーザーを用いること…

Meltio M600は、先行機種のMeltio M450と比較し造形面積が約4倍になり、鍛造品相当の強度をもつ、より大きな金属部品を造形できます。またホットワイヤー対応に加え新たにブルーレーザーが搭載されたことで、使用できる材料が増えるだけでなく、造形速度がより速くなりました。さらに、Meltio M600はMeltio M450と比較し造形開始に必要な準備時間が3分の1に短縮されています。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社3D Printing Corporation

高性能・高圧多用途ポンプ【プラステコ】 L.TEXシリーズ

PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

用途によって選べるタイプ！！ ●ポンプ単体（装置組込式）　●制御部一体型標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ－ポンプです。当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。最大流量は 10mL/min ～ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...

メーカー・取り扱い企業：株式会社プラステコ本社

半自動ガス切替装置

簡単な操作で、途切れることなくガスを供給

切替に電磁弁等を使用していないため電源が無い場所でも使うことが可能な、半自動ガス切替装置...【特徴】 ■ガス供給を2系列に分け、どちらか一方の系列よりガスを供給　片方のボンベが空になると、もう片方の系列に自動的に切り替わる ■空になったボンベを充填済みボンベに交換し　切替ハンドルを操作するだけで連続的にガスを供給する事が可能　さらに、ガスを供給しながらボンベを切替る事が...

メーカー・取り扱い企業：川口液化ケミカル株式会社川口事業所

ジャケットヒーターシステム

PID制御でさらに温度均一性を保つ配管用ジャケットヒーター

半導体配管の最適化重要アイテム、ジャケットヒーターシステムです。配管内の副生成物付着防止・供給ガスのヒーティングや排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管の加熱用ヒーター【特長】・200℃までの高温まで加熱可能・多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは高安全性で丈夫・コールドスポットがなく、温度均一性に優れます・半導体装置用のクリーンルー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東京興業貿易商会本社

ガス供給装置の設置・製造【設備案内】

湘南テクノが挑戦し続けているのも、この激動の分野です。半導体を製造する為の機械設備に使用される私達の精密機械加工技術が、お客様が日頃、お使いになられている製品にいかさえれているかも知れません。＝＝＝創業以来、私達は世界基準を満たすクオリティーを追求し続け　　　　　　　　　　　　　　　　　　　更なる技術の革新を追求し続けています＝＝＝・師弟関係をもったマイスター達は、技...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

【ガススプリングの代替に】パワーアシストヒンジ採用事例

ガススプリングの代替にパワーアシストヒンジを。ガス抜けがなく省スペース…

チップマウンターのカバー開閉部分にパワーアシストヒンジ HG-PA230-25を採用いただきました。【課題のポイント】・ガススプリングを取り付けるスペースが確保できないが、開けるときのアシスト機能が欲しい。・積層表示灯を見やすい装置にしたい。【解決のポイント】カバーの重量が重いため従来機種ではガススプリングを使用されていましたが、新機種では内部の装置の関係でガススプ...

メーカー・取り扱い企業：スガツネ工業株式会社テクノフィールド事業部

脱気システム Livalley

気泡の原因を元から除去！既存プロセスに後付けするだけで溶存酸素を10p…

半導体・電子部品、食品、医薬品、化粧品業界の皆様からの問い合わせ多数！通常の純水に溶け込んでしまう空気の成分である窒素、酸素のガス成分を減圧や気液分離方式で取り除き、コントロールすることにより減少させた脱気水を用いて、既存プロセスの歩留りを改善します。 ■特徴１：生産・検査・試験プロセスの歩留まり改善液体に溶け込んでいるガス成分（窒素、酸素等）を高効率で除去、または供給することで液...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東設本社ヘッドオフィス

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』

真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80…

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1～80amuであり、2.0Pa以下（差動排気系不要）の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力...

メーカー・取り扱い企業：キヤノンアネルバ株式会社栗木本社

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

全てのFOUPに対応した SEMI準拠のN2パージロードポート【特徴】 ○FOUPの種類によらず、全てのFOUPに対応 ○FOUPドアが開いた状態でドア側からガスを封入　フロントパージ方式を採用（最大200LPM噴射） ○多量のガスを一挙に流し、置換時間及びガス総流量を大幅に改善 ○SEMI規格に基本的に準じている ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ライト製作所本社

高周波超音波洗浄機（メガソニック）　UMCシリーズ

精密洗浄に適する高い周波数洗浄機（500kHz、1MHzHz）----…

高周波数超音波洗浄機UMCシリーズは、精密洗浄に適する高い周波数（500kHz、1MHzHz）を利用した洗浄機である。UMCシリーズでは、500kHz型、1MHzHz型それぞれ２機種が用意されている。 UMCシリーズの特徴は、１、デジタル式超音波発振器で、照射時間、出力モードの設定、および超音波出力の調整が簡単にできる。２、共振周波数自動サーチ機能付き、常に安定した超音波出力と高洗浄力を...

メーカー・取り扱い企業：新科産業有限会社

卓上型ＵＶ照射装置　MUV

試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い　表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため　厚みのある基板（試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メープル

フレキシブルシンタリングシステム『SIN200+』

次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置

シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結）によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー半導体に最適です。真空チャンバー内での加熱、シンタリング（加圧）、冷却の全工程で、サブストレート温度、雰囲気圧力および、プロセスガスを、リアルタイムで正確に制御すること...

メーカー・取り扱い企業：ピンク・ジャパン株式会社

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

耐久性と省エネを実現し、ランニングコストを低減あらゆるプロセスに対応する高耐久性ドライ真空ポンプ【特徴】 ○独自のスクリュー圧縮技術により　ハードなプロセスでの安定稼動を実現 ○ポンプ構造材は耐食材料を使用。腐食性ガスの排気にも対応 ○スクリュー形状、及び駆動系の改良により　従来製品に対し、消費電流を40%低減 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード...

メーカー・取り扱い企業：樫山工業株式会社

ガスフリーペン型大気圧プラズマ装置 NRSR-P10

外部からガスを供給することなくプラズマ処理が可能です。表面処理（塗…

製品の特徴  ペンタイプで扱いが容易  ガス供給が不要、AC100V の電源接続のみで使用可能  簡単操作  小型コントロールボックス  コロナ放電タイプと違い、対向電極不要  処理対象への電荷ダメージなし ...仕様品名 NRSR-P10 プラズマペン部材質樹脂、石英、金属寸法(mm) Φ22 × 100 コントロール部寸法（突起部含まず）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

ヒューズテクノネット　燃料電池イオン膜評価機

Windowsパソコンでの操作がわかりやすい

燃料電池の電気的特性、ガスによる物理的特性、耐久特性の評価に最適です。改質器の評価も可能です。供給用加湿器ユニットは内臓（※単品販売可） ...【特徴】 ○Windowsパソコン操作がグラフィカルで分かりやすくなっています。 ○温度・圧力・流量・電圧・電流などのデータをパソコン画面上に表示し、データを記録、テキスト形式で保存できますのでデータ加工が可能です。 ○各運転パターンを設定することが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

RFプラズマ源　ERFS-500

無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構により　操作が簡単かつ長時間安定な動作が可能です。 ○空冷仕様になっており冷却水の心配がなく　既設装置等へ気軽に取り付けられる ○活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え　かつクリ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起ラジカル源【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため　面倒な...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

縦型減圧CVD装置

10種類以上の半導体ガスを自在にコントロール可能！カスタマイズ可能

縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能によりナチュラル酸化を低減 ■常温～900℃まで安定した温度コントロールを実現 ※...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ハイテクノサービス

ヒューズテクノネット　ガスコントロールユニット集積タイプ

ガスコントロールユニット集積タイプで、ガス漏れを監視します

半導体、液晶工場向け装置ガス、液体材料供給システムの設計、製作を行っております。...【特徴】 ○ガス漏れを防ぐ ○集積タイプ ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

RFラジカルビーム源　IRFS-503

放電部、引き出し部は高純度PBNで製作され活性ガス導入時でも長時間安定動作が行えかつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることが可能な、ラジカルビーム源【特徴】 ○ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し　差圧によりフラックスを引き出す ○放電が目視確認できるビューポートを標準装置　発光モニターや分光器を使用して、放電状態・励起状態を確認できる ○...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

空圧制御式　薬液供給装置『AID-S100』※特許出願中

電源を使わず薬液圧送！小型で運搬・設置もラクラク。高純度試薬・EL級薬…

『AID-S100』は、研究・試作などで使用する薬液の供給装置です。窒素やアルゴンなどの不活性ガスを動力に使うため、電源は一切不要！脱水溶媒などの高純度試薬や、ELグレードの薬品にも対応しているほか、コンパクトな筐体で、運搬・設置がラクに行えます。【特長】 ■一般室から防爆エリアまで対応 ■本体背面に動力用の加圧ボンベを収納可能(オプション) ■安全機能も搭載 ■特...

メーカー・取り扱い企業：関東化学株式会社電子材料事業本部

ヒューズテクノネット　透明導電膜加湿ユニット

H2Ｏを加温気化し、マスフローコントローラーで流量制御し、エッチング装…

加湿タンク内でＮ2ガスをバブリング、マスフローコントローラーで安定制御、温調器でプロセスラインベーキング制御、各炉へ安定供給します。...【特徴】 ○タンク制御温度・・・・・・・・60～65℃（センサーPT100Ω） ○配管制御温度・・・・・・・・・70～75℃（センサーPT100Ω） ○タンク・配管温度異常・・・・110℃（センサーサーモスイッチ） ○Ｈ2Ｏタンク水位検知用に、H・Mレベ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

ジャパンエコテック　ヒートレスドライヤー

AMLOC装置により、再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置

-73℃という低い露点温度がえられます。AMLOC装置により、再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置。...【特徴】 ○-73℃という低い露点温度 ○再生空気量を最小限に保つ省エネルギー装置 ○半導体製造のN2ガスの代用 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジャパンエコテック

高速フレーム溶射装置『Met-PCC（HVOF）』

インテルデュアルアトムプロセッサーを搭載！操作性・統合性・伝達性に優れ…

『Met-PCC（HVOF）』は、メタライゼーション社以外のガス燃料HVOFガンとつなぐことができる高速フレーム溶射装置です。インタフェースはインテルデュアルアトムプロセッサーを搭載したタッチスクリーンのウィンドウズのプラットフォームで機能。ガスと液体に関して、皮膜の好適な連続性の為に質量流量ですべて制御されており、すべての溶射パラメーターで装置のリアルタイムの動向...

メーカー・取り扱い企業：株式会社澤村溶射センター

高速炭酸脱気装置　クイックDe－Gas

3分で炭酸を完全脱気！成分検査の工程を大幅短縮します！

炭酸飲料の成分検査に欠かせない炭酸脱気作業。工程は、時間がかかるとサンプルの成分にも影響があるため、迅速な作業が必要となります。クイックDe－Gasは、攪拌と減圧及びエアレ-ションを組み合わせ短時間に効率よく炭酸ガスを脱気する装置です。例えば、200mlのコーラなら約3分で完全に脱気できます。またサチュレ-ションボトルを使用すれば、アルコール等揮発性の高い成分の蒸散を抑え、迅速に脱気できます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ビクスル

UV(紫外線)硬化装置｜高圧水銀ランプ仕様「UVC-408」

小型・軽量・小フットプリント装置

ワークを回転させながら照射させるため、ウェーハー全領域に均一な照射を行なう事ができるUVフィルム硬化装置...■主な特長・独自の高効率、小流量N2パージ機能が搭載・N2の使用量が従来装置と比べてはるかに少なく、しかも確実な置換効果が得られる・低消費電力化、微量なガス消費など、装置のランニングコストの低減に大きく貢献するばかりでなく、装置コストの削減、高価なクリーンルームの設...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社