ガス機能 | イプロスものづくり

PR先行機種と比較し造形面積が約4倍になり、またブルーレーザーを用いること…

Meltio M600は、先行機種のMeltio M450と比較し造形面積が約4倍になり、鍛造品相当の強度をもつ、より大きな金属部品を造形できます。またホットワイヤー対応に加え新たにブルーレーザーが搭載されたことで、使用できる材料が増えるだけでなく、造形速度がより速くなりました。さらに、Meltio M600はMeltio M450と比較し造形開始に必要な準備時間が3分の1に短縮されています。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社3D Printing Corporation

セラミックス触媒による排気脱臭技術『セラ・ダイナミックス』

PR繰り返し使えて長寿命！自己再生能力を持つセラミックでカンタン悪臭対策！

『セラ・ダイナミックス』は、セラミック触媒を使用し、排気などのニオイを強力脱臭できる技術です。空調ダクトや排ガスダクトに設置するだけで、悪臭、油ミスト、有機溶剤を強力に吸着、分解、無害化し、悪臭防止法・PRTR・近隣対策ができます。 30万～40万種と言われる臭気成分に幅広く対応可能。用途や臭気成分などの条件に合わせて選べる製品ラインアップも魅力です。【『セラ・ダ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ファインセラ

NEXGENグローブボックスシステム（新時代のガス精製装置付）

再生ガス・再生工程不要の新時代のガス精製装置付きグローブボックスシステ…

・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。・酸素濃度、水分濃度１ppm以下を保持、NEXGENシステムによるオートバキ　ューム・オートパージ・全自動圧力コントロール。・全世界に２万台以上の導入実績、63年の歴史を誇る世界基準のグローブボ　ックスメーカーVAC社製 ...1.次世代型カートリッジ式ガス精製装置を搭載【特許技術】 2.酸素濃度・水分濃度を...

メーカー・取り扱い企業：山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

GaN半導体 MOCVD用機能部品

高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しております。 ■超高温ヒータ・超高温（1500℃以上）での使用が可能・腐食性ガス雰囲気に耐性がある・色々な形状にも対応でき、設計の自由度が高い ■その他機能部品・MOCV...

メーカー・取り扱い企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

高精度プログラマブルホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（NW25）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。また、多様なインターフェースも標準装備しています。【特長】 ■広い測定範囲（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa） ■簡単なセ...

メーカー・取り扱い企業：東京電子株式会社

PressVac(プレスバック)高純度ガス用圧力トランスミッター

バリューインパクトの自社ブランド「PressVac(プレスバック)」よ…

半導体・電子・医療、バイオテクノロジー、製薬業界で使用される高純度ガス用に設計されています。本製品は、ピエゾ抵抗効果センサーとホイートストンブリッジ回路で圧力を電気信号に変換し伝送する高純度ガス用圧力変換器です。ステンレス製の防水ハウジングを採用し、過酷な環境から完全に保護されます。...【仕様】品番　　 HPT03 測定流体各種半導体プロセスガス継手形状 S型接続ねじ ...

メーカー・取り扱い企業：バリューインパクト有限会社

水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）

H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。従来と同じプラズマクリーニングにも当然対応。さらに従来のＡｒプラズマクリーニングとの複合クリーニングやＯ２（酸素）クリーニングとの2段階ステップクリーニングなど新たなク...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

高耐熱樹脂　『PEEK』　【短納期　小ロット　対応可能】

半導体、航空宇宙、食品、医療などでマルチに活躍する高性能樹脂！切削…

PEEKは「高耐熱性」「機械的強度」「耐薬品性」などに優れた熱可塑性高機能樹脂(スーパーエンプラ)。 PEEKは連続使用温度約250℃、融点は334℃で熱可塑性樹脂で最高ランクの熱的特性を誇る。耐薬品性に非常に優れており、高温下での耐酸・耐アルカリ性に非常に優れている。又、幅広い周波数範囲で優れた絶縁性・誘電特性を発揮。 PEEKは切削による1個からの対応に加え射出での量産ロットにも対応可...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

半自動ガス切替装置

簡単な操作で、途切れることなくガスを供給

切替に電磁弁等を使用していないため電源が無い場所でも使うことが可能な、半自動ガス切替装置...【特徴】 ■ガス供給を2系列に分け、どちらか一方の系列よりガスを供給　片方のボンベが空になると、もう片方の系列に自動的に切り替わる ■空になったボンベを充填済みボンベに交換し　切替ハンドルを操作するだけで連続的にガスを供給する事が可能　さらに、ガスを供給しながらボンベを切替る事が...

メーカー・取り扱い企業：川口液化ケミカル株式会社川口事業所

ジャケットヒーターシステム

PID制御でさらに温度均一性を保つ配管用ジャケットヒーター

半導体配管の最適化重要アイテム、ジャケットヒーターシステムです。配管内の副生成物付着防止・供給ガスのヒーティングや排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管の加熱用ヒーター【特長】・200℃までの高温まで加熱可能・多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは高安全性で丈夫・コールドスポットがなく、温度均一性に優れます・半導体装置用のクリーンルー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東京興業貿易商会本社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。【半導体製造装置の流体制御に】半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。【注目製品】新製品：温度変化に強いADRO...

メーカー・取り扱い企業：日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　（旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

地方独立行政法人大阪産業技術研究所様に、マグネトロンスパッタリング装置を納入した事例を紹介させていただきます。今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロードロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大阪真空機器製作所

ガス供給装置の設置・製造【設備案内】

湘南テクノが挑戦し続けているのも、この激動の分野です。半導体を製造する為の機械設備に使用される私達の精密機械加工技術が、お客様が日頃、お使いになられている製品にいかさえれているかも知れません。＝＝＝創業以来、私達は世界基準を満たすクオリティーを追求し続け　　　　　　　　　　　　　　　　　　　更なる技術の革新を追求し続けています＝＝＝・師弟関係をもったマイスター達は、技...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

【ガススプリングの代替に】パワーアシストヒンジ採用事例

ガススプリングの代替にパワーアシストヒンジを。ガス抜けがなく省スペース…

チップマウンターのカバー開閉部分にパワーアシストヒンジ HG-PA230-25を採用いただきました。【課題のポイント】・ガススプリングを取り付けるスペースが確保できないが、開けるときのアシスト機能が欲しい。・積層表示灯を見やすい装置にしたい。【解決のポイント】カバーの重量が重いため従来機種ではガススプリングを使用されていましたが、新機種では内部の装置の関係でガススプ...

メーカー・取り扱い企業：スガツネ工業株式会社テクノフィールド事業部

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着する、排ガス処理セット...【特徴】 ■塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着 ■エッチングマシーンの排気口へピッタリ差し込め取り付けが簡単 ■乾式フィルターを採用し、取り替えが簡単 ■活性炭カセット代は1時間当たりおよそ25円と経済的 ■活性炭カセット寿命：150時間 ■排気風量：約35L/分 ■排気ダクト長：2m以内 ■...

メーカー・取り扱い企業：サンハヤト株式会社

脱気システム Livalley

気泡の原因を元から除去！既存プロセスに後付けするだけで溶存酸素を10p…

半導体・電子部品、食品、医薬品、化粧品業界の皆様からの問い合わせ多数！通常の純水に溶け込んでしまう空気の成分である窒素、酸素のガス成分を減圧や気液分離方式で取り除き、コントロールすることにより減少させた脱気水を用いて、既存プロセスの歩留りを改善します。 ■特徴１：生産・検査・試験プロセスの歩留まり改善液体に溶け込んでいるガス成分（窒素、酸素等）を高効率で除去、または供給することで液...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東設本社ヘッドオフィス

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意しています。マルチガス・マルチレンジモデルは、スペアMFCの在庫の大幅削減に寄与する事でコストダウンを図っています。また、流量のモニタリングと制御を総合的に行うため、RS-485通信機能...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』

真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80…

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1～80amuであり、2.0Pa以下（差動排気系不要）の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力...

メーカー・取り扱い企業：キヤノンアネルバ株式会社栗木本社

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

全てのFOUPに対応した SEMI準拠のN2パージロードポート【特徴】 ○FOUPの種類によらず、全てのFOUPに対応 ○FOUPドアが開いた状態でドア側からガスを封入　フロントパージ方式を採用（最大200LPM噴射） ○多量のガスを一挙に流し、置換時間及びガス総流量を大幅に改善 ○SEMI規格に基本的に準じている ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ライト製作所本社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。〇特長・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガ...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

高周波超音波洗浄機（メガソニック）　UMCシリーズ

精密洗浄に適する高い周波数洗浄機（500kHz、1MHzHz）----…

高周波数超音波洗浄機UMCシリーズは、精密洗浄に適する高い周波数（500kHz、1MHzHz）を利用した洗浄機である。UMCシリーズでは、500kHz型、1MHzHz型それぞれ２機種が用意されている。 UMCシリーズの特徴は、１、デジタル式超音波発振器で、照射時間、出力モードの設定、および超音波出力の調整が簡単にできる。２、共振周波数自動サーチ機能付き、常に安定した超音波出力と高洗浄力を...

メーカー・取り扱い企業：新科産業有限会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

卓上型ＵＶ照射装置　MUV

試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い　表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため　厚みのある基板（試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メープル

フレキシブルシンタリングシステム『SIN200+』

次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置

シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結）によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー半導体に最適です。真空チャンバー内での加熱、シンタリング（加圧）、冷却の全工程で、サブストレート温度、雰囲気圧力および、プロセスガスを、リアルタイムで正確に制御すること...

メーカー・取り扱い企業：ピンク・ジャパン株式会社

デスクトップクイックコーター「SC-701MkII」

SEM用試料の前処理用として最適！シリーズ最小のコンパクトコーターです…

「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル＆イージーオペレーションです。イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格／小型軽量タイプ ○熱ダメージ防...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

リングレート:200Å/min 　■ ビーム径:2.5mm 　■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ　■ イオンビームスキャニング機能: 　■ DC偏向機能: 　■ 自動出ガス機能: 　■ 取付フランジ:ICF70 　■ 許容加熱温度:250℃...

メーカー・取り扱い企業：有限会社テク

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

耐久性と省エネを実現し、ランニングコストを低減あらゆるプロセスに対応する高耐久性ドライ真空ポンプ【特徴】 ○独自のスクリュー圧縮技術により　ハードなプロセスでの安定稼動を実現 ○ポンプ構造材は耐食材料を使用。腐食性ガスの排気にも対応 ○スクリュー形状、及び駆動系の改良により　従来製品に対し、消費電流を40%低減 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード...

メーカー・取り扱い企業：樫山工業株式会社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度センサならびに当社独自のNeuralStep制御技術を一体化することによ...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

ガスフリーペン型大気圧プラズマ装置 NRSR-P10

外部からガスを供給することなくプラズマ処理が可能です。表面処理（塗…

製品の特徴  ペンタイプで扱いが容易  ガス供給が不要、AC100V の電源接続のみで使用可能  簡単操作  小型コントロールボックス  コロナ放電タイプと違い、対向電極不要  処理対象への電荷ダメージなし ...仕様品名 NRSR-P10 プラズマペン部材質樹脂、石英、金属寸法(mm) Φ22 × 100 コントロール部寸法（突起部含まず）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

古河電気工業（株）でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を５年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉...

メーカー・取り扱い企業：プロセスD&Tラボ千葉

【総合カタログ無料プレゼント】ディップコーター、ナノインコーター

実験・開発用卓上ディップコーター(ディップコーティング装置)、ナノイン…

◆◆今なら総合カタログ無料プレゼント中です。◆◆ 簡易(速度の可変で)に、低コストで、薄膜を均一にコーティングするディップコーターや、離型剤を定着させるナノインコーターなど、薄膜コーティング技術のディップ方式を、豊富なラインアップで、多くの分野に展開し用途に応じて選択できます。様々なプロセスに対応する3次元タイプのナノスピードディップコーター、両面同時に薄膜を形成することがで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ

ヒューズテクノネット　燃料電池イオン膜評価機

Windowsパソコンでの操作がわかりやすい

燃料電池の電気的特性、ガスによる物理的特性、耐久特性の評価に最適です。改質器の評価も可能です。供給用加湿器ユニットは内臓（※単品販売可） ...【特徴】 ○Windowsパソコン操作がグラフィカルで分かりやすくなっています。 ○温度・圧力・流量・電圧・電流などのデータをパソコン画面上に表示し、データを記録、テキスト形式で保存できますのでデータ加工が可能です。 ○各運転パターンを設定することが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

RFプラズマ源　ERFS-500

無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構により　操作が簡単かつ長時間安定な動作が可能です。 ○空冷仕様になっており冷却水の心配がなく　既設装置等へ気軽に取り付けられる ○活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え　かつクリ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起ラジカル源【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため　面倒な...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

メーカー・取り扱い企業：エヴァンリード株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、研究ステージに合せてグレードアップしていただくことが可能です。【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や様々な異種積層成膜が可能です。【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCor...

メーカー・取り扱い企業：株式会社愛知真空

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

縦型減圧CVD装置

10種類以上の半導体ガスを自在にコントロール可能！カスタマイズ可能

縦型、枚葉、ウェハーサイズ、ガス種、フットプリントなど多くの使用に対応。汎用性を重視したハイグレード縦型減圧CVD装置です。標準仕様を基にカスタマイズを施し、より安価に製造することも可能です。【特長】 ■スモールフットプリントながらウエハーサイズ3" 6" 8"/inchに対応 ■ヒーター昇降機能によりナチュラル酸化を低減 ■常温～900℃まで安定した温度コントロールを実現 ※...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ハイテクノサービス

ヒューズテクノネット　ガスコントロールユニット集積タイプ

ガスコントロールユニット集積タイプで、ガス漏れを監視します

半導体、液晶工場向け装置ガス、液体材料供給システムの設計、製作を行っております。...【特徴】 ○ガス漏れを防ぐ ○集積タイプ ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット