ブルーレーザー搭載最新金属3Dプリンター、Meltio M600

PR先行機種と比較し造形面積が約4倍になり、またブルーレーザーを用いること…

Meltio M600は、先行機種のMeltio M450と比較し造形面積が約4倍になり、鍛造品相当の強度をもつ、より大きな金属部品を造形できます。またホットワイヤー対応に加え新たにブルーレーザーが搭載されたことで、使用できる材料が増えるだけでなく、造形速度がより速くなりました。 さらに、Meltio M600はMeltio M450と比較し造形開始に必要な準備時間が3分の1に短縮されています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社3D Printing Corporation

独自の安全機構でガス充満による酸欠事故を防止『グローブボックス』

PR真空装置メーカーの技術・経験を結集！自社設計により柔軟な仕様変更とリー…

当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する 『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。 内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、 グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。 グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。 【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

GaN半導体 MOCVD用機能部品

高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しております。 ■超高温ヒータ ・超高温（1500℃以上）での使用が可能 ・腐食性ガス雰囲気に耐性がある ・色々な形状にも対応でき、設計の自由度が高い ■その他機能部品 ・MOCV...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意しています。 マルチガス・マルチレンジモデルは、スペアMFCの在庫の大幅削減に寄与する事でコストダウンを図っています。また、流量のモニタリングと制御を総合的に行うため、RS-485通信機能...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため 　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度センサならびに当社独自のNeuralStep制御技術を一体化することによ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

撥水コーティング装置 テスト受付中

プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…

エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。 実績と対応のプラズマ表面処理装置...標準２５０ｍｍ□の処理ステージで各種表面処理（撥水化・親水化・表面酸化・クリーニング） 基板と目的に合わせて...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（ICF70）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa） ■簡単なセ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社