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高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ
PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…
用途によって選べるタイプ!! ●ポンプ単体(装置組込式) ●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ-ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ~ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社プラステコ 本社
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ブルーレーザー搭載最新金属3Dプリンター、Meltio M600
PR先行機種と比較し造形面積が約4倍になり、またブルーレーザーを用いること…
Meltio M600は、先行機種のMeltio M450と比較し造形面積が約4倍になり、鍛造品相当の強度をもつ、より大きな金属部品を造形できます。またホットワイヤー対応に加え新たにブルーレーザーが搭載されたことで、使用できる材料が増えるだけでなく、造形速度がより速くなりました。 さらに、Meltio M600はMeltio M450と比較し造形開始に必要な準備時間が3分の1に短縮されています。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社3D Printing Corporation
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排ガス測定に有効!高性能ガス分析FT-IR「MATRIX-MG」
EU欧州連合における段階的自動車排出ガス規制「EURO6」測定試験で検…
EU(欧州連合)にて実施されている、段階的な自動車排ガス規制「EURO6」をご存じですか? ブルカーの高性能FT-IRガス分析装置「MATRIX-MG」は、そのEURO6の実際の測定試験にて検証されました。 車の荷台に積めるコンパクト設計なボディに、他の追随を許さない高分解能を搭載したFT-IRガス分析の最高峰装置をご紹介いたします。 ■MATRIX-MGの特長 ・ガスの定性および...
メーカー・取り扱い企業: ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
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独自の特許技術によるアルゴンガスフラッシング!炭素検出限界0.008%…
『Z-900シリーズ』は、炭素測定が可能な新しいハンドヘルド型の 分析計です。 グラインダー等によるサンプル表面の前処理に加え、本体の プレバーン機能で試料の表面汚れを除去。 高純度のアルゴンガスを使用しており、約50μmのスポットを 照射可能です。 【特長】 ■配管の端部測定も可能 ■独自の特許技術によるアルゴンガスフラッシング ■高純度のアルゴンガスを使用 ■狭...
メーカー・取り扱い企業: 日本エリーズマグネチックス株式会社
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ARL iSpark Plus 固体発光分光分析装置(OES)
信頼性が高くハイクオリティな金属分析を実現!さまざまなニーズに対応する…
ARL iSpark Plus OESは洗練された光電子増倍管(PMT)光学系に基づいた高性能な発光分光分析装置です。 当装置は、次に示すような優れた機能性および他の革新的な技術を有しています: • 迅速な分析(従来比15%アップ) • 独自のPMT光学系 • 画期的なデジタル制御された発光装置 • 革新的なスパークスタンド設計 – メンテナンス性の向上 – ほぼ全ての元素の安定性を向上 ...
メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.
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研究室で最大0.1気圧環境下のオペランド測定が可能
EnviroESCAは試料を準大気圧(最大0.1気圧)環境下で測定し、従来のような超高真空環境を必要としません。液体・含水性試料はもちろん、揮発試料や激しく脱ガスする多孔質な試料でも、EnviroESCAの試料室に投入後、僅か数分後には測定を開始します。従来型XPSでは測定を諦めていた試料を分析できるだけでなく、雰囲気ガスや温度を自由に制御して新しい研究分野を開拓する強力な武器となります。現在...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社東京インスツルメンツ
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【高速データ取得・高感度・ネットワーク接続】紫外・近赤外領域の感度がU…
【特徴】 ■最速3,000スキャン/秒の高速データ取得 最小露光時間10μ秒~高速測定や高輝度測定に最適! ■50,000スペクトルのバッファ機能 スペクトルデータを分光器内部に一時的に保存可能! ■USB,Ethernet,Wi-Fi通信 離れた場所で分光器を制御可能! ■紫外・近赤外領域の感度UP バイオメディカルや環境ガス分析などの用途に最適! ■スリット交換機能 ...
メーカー・取り扱い企業: オプトシリウス株式会社
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ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット ...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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