アリ溝式ステージ『セルフロックステージ　SLXシリーズ』

PR特許取得のロック機構で止めた位置から微動しないステージ。ロングストロー…

バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 位置調整後にステージをストップする特許取得のセルフロック機構を搭載。 手動ストッパーやクランプ操作による微動・位置ずれの心配がありません。 高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍します...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミラック光学

TCGランナー『CRS&CPSシリーズ』＜ステンレス仕様＞

PRステンレス製の耐食性に優れ、高い防錆効果を有したノンバックラッシラック…

『CRS&CPSシリーズ』＜ステンレス仕様＞は、TCGシリーズの ノンバックラッシ、高精度、低摩耗・低発塵等の特長そのままに、 ステンレス鋼を用い製作したTCGランナーです。 製品オプションにて、封入/塗布するグリースを指定品に変更することや、 微粒子やイオン状物質を除去する精密洗浄の実施も対応可能です。 継足し治具を使った長尺使用や180m/min以上の高速走行も可能です。 送り精度と位置決...

メーカー・取り扱い企業： 加茂精工株式会社 本社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケー...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

VPG 300 DI

VPGシリーズに300x300mm角基板まで対応した高速描画装置が加わ…

・高精細・高速描画 ・最大描画領域　300x300mm2 ...最小寸法0.5um、Line　Space 0.8umまで描画可能。 選択できるWrite Mode(最小寸法0.5um　または0.8um) 高出力DPSSレーザー 最大描画面積　300x300mm2 リアルタイムオートフォーカス オートローダー 基板検出機能 裏面アライメント機能 Zerodur採用 高精度微分干...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社