【スケール、赤錆対策】電磁式水処理装置『ハイドロフロー』※英国製

PRメンテナンスフリー！防食・スケール対策・赤錆対策・殺藻・スライム防止の…

電磁式水処理装置『ハイドロフロー』は、さまざまな材質の管内に電磁界を形成することによって水処理をする装置です。 トランスの原理を応用して、配管の外側に装着するだけで本体より発生する電磁波を管の外側に巻き付けた フェライトリングを通じて、管内に水流に対して直行する磁場と電場を誘導します。 水を通じてその効果を、上流および下流の各5000mにいきわたらせることでスケール等に作用します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セルポ株式会社

【防災・環境商材】簡単設置で省エネ！「エレクトロライフ」

PR【特許取得製品】 電解技術で冷却塔などのスケールを強力除去、再付着も…

「エレクトロライフ EL-10A-1」は、冷却塔などの循環冷却水系に付着するスケールを、電解技術を用いて強力に除去、再付着を防止する製品です。 (特許第4214139・第4644677) 従来の薬剤注入、磁石、弱電解の方法より、強力な除去効果を発揮します。これにより熱交換効率を改善し、大きな省エネ効果とCO2削減効果を図ることが可能になります。 また、スケール分散剤などの薬品も使用し...

メーカー・取り扱い企業： イツワ商事株式会社 大阪本社

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位で光強度に階調を持たせた2次元画...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノシステムソリューションズ

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパター...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5mmx5mm～8インチ＊モデルにより異なる ●様々なCADに対応 ●3D構造に特化したソフト...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

た、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

リニアイオンソース『LION』

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

可能。イオンビームは 強く収束され、高エネルギー化しています。 物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、 シンプルで頑丈な設計のため、イオンソーズは容易にスケールアップ可能。 メインアプリケーションは、大面積ガラス製膜と金属箔製膜です。 【特長】 ■アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能 ■仰角調節可能な外付けバージョン、フラン...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社