CNT分散に好適　常光超高圧ホモジナイザーNAGSシリーズ

PR切らずにほぐす　高粘度にも対応　CNT分散に好適な実験機をご提案～切換…

最新電池・最新電子デバイス分野でCNTは実用化段階に入りました。 ビーズミル機や超音波ホモジナイザーでは繊維長を維持した精緻な分散は困難。 ユーティリティ、スケールアップの観点からCNT分散では 超高圧ホモジナイザー一択となりつつあります。 《下記のような課題はございませんか》 ・アプリケーションに応じた適したの分散状態にコントロールしたい ・できるだけ切らずにほぐしたい ・詰まりにくく、利便...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社常光 ナノマテリオ・エンジニアリング事業部

水質改善器具『アクアクリスタルリング』※経済効果と環境性能が両立

PR冷却塔のスケール除去や熱交換器のスケール付着防止・防サビに！経済効果と…

水質改善器具『アクアクリスタルリング（ACR）』は、直径100mm、厚さ30mmのドーナツ型樹脂製容器に、発電能力の高い特殊な水を封入した水質改善器具です。 水中で揺れると、最大で0.2V程度の電圧を発生させて周囲の水を改質。 外部エネルギーを必要としない新しい水処理の器具です。 薬品よりも浄水能力が高く、ランニングコストが不要。 配管やタンク・機器類の延命に貢献します。 【...

メーカー・取り扱い企業： 重松テック株式会社

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位で光強度に階調を持たせた2次元画...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノシステムソリューションズ

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパター...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コシブ精密 長野工場

昇華精製装置『DSUシリーズ』

0.1kgの少量精製から10kgまでの量産精製に対応。省スペースで設置…

【こんな方におススメ】 ◎従前の昇華精製工程をスケールアップして量産化したい ◎有機材料の精製に要する工数を削減したい ◎海外の量産拠点を国内に移したい ◎生産をアウトソースしても純度収量を安定して確保したい ◎設置スペースが確保できず困っている ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ウォールマウント型GPU搭載IPC　AT-IPCWG002

データセンター向けGPUのNVIDIA Tesla T4を搭載可能にし…

１．NVIDIA社ハイエンドGPUのNVIDIA Tesla T4搭載 ハイパースケールデータセンターやディープラーニングのトレーニング、推論、機械学習、データ分析やグラフィックス、高い処理能力が要求される様々な分野で活用されている「NVIDIA Tesla T4」を搭載。 ２...

メーカー・取り扱い企業： アナログ・テック株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

た、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

産業機器を使用した半導体製造プロセスの最適化方法

半導体製造の効率を従来より60%アップ！消耗品の産業機器を最適化かつ長…

ガジンラック ・ICチップトレイ ・PEA/ETFE離型フィルム ・セラミック加工部品 ・パラメトリックモデリング ・SMTノズル ・樹脂、セラミック素材の3Dプリンター（2~25μｍスケール）...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社オルテコーポレーション 本社

MSC8156AMC

MSC8156AMC

フリースケール製MSC8156搭載AMCカードです。1ライン3.125G帯域をサポートし、８ポート×4シリアルRapidIOスイッチサポート、１つ６ポートSGMIIイーサネットスイッチ、 x4シリアルRapid...

メーカー・取り扱い企業： ポジティブワン株式会社

半導体製造装置・検査装置に好適なアライメントステージ

0.1μmの追従性を実現する『RSTアライナー』と薄型・小型の省スペー…

【RSTアライナー】 ■最大の特徴である駆動ユニットのバランスの取れた正三角形配置がアライメントに必須の超高精度な微少駆動を可能に ■リニアスケール等のフィードバックを掛けずに0.1μm±20nmの高い追従性を実現 ■ベアリングを使用していない為、大口径の透過穴が実現可能 ■ウエハサイズやワークサイズに合わせ、テーブルサイズも自在 ■貼...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

鏡面切削加工

『鏡面切削加工　ラッピングしないで鏡面加工　微細加工　特殊形状　アーチ…

　ラッピングしないで鏡面加工 特殊形状　 アーチ型　超精密鏡面加工　鏡面仕上げです。 本製品の表裏面は、 鏡面切削加工になっております。 また、形がアーチ形で、 製品に写っているスケールが曲がっています。 こちらの鏡面切削加工は、 面粗度Ｒa0.02～0.04（Ｒｙ0.15～0.30）レベルで、 マシニングセンターで加工しました。 また、特殊刃物使用し、切削加工の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社中田製作所

鏡面切削加工技術

【材質A5052（a5052）　平行度0.03　真円度0.02　鏡面切…

段落ち面と左右の平らな上面に平行度0.03という精度が入っております。 また、左右の側面にあいているΦ20mmの穴径は、 真円度0.02という精度が入っています。 製品の表面は、スケールが写るくらい面が綺麗で、 面粗度はRa0.03です。当社自慢の鏡面切削加工技術なんです。 平面度が必要な場合は、惜しみなくこの鏡面切削加工技術を使ってしまいます！ アルミ精密部品加工は、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社中田製作所

マイクロマニピュレータシステム

小部品を、数グラムで把持・マイクロメートルの位置決めが可能

　・占有容積が従来の１／８以下 　・顕微鏡周辺での並べやすさと剛性を両立させるジャストサイズ ◆モノコック式高剛性軽量の顕微鏡ベース 　・軽量、卓上型サイズで移設が簡単 　・高分解能リニアスケール内蔵、ＸＹＺ１５０ｍｍのロングストローク確保 ◆その他 　・高精彩カメラ・簡易計測ソフトも準備 　・加熱ステージ搭載可能...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

特注システム製品 「干渉系露光装置」

特注システム製品 「干渉系露光装置」のご紹介です。

【ラインナップ】 ○ナノメータ画像位置決め装置 ○防振台 ○フィルム基板張合せ装置 ○偏光板を利用した輝度計測・評価装置 ○リニアスケール付き顕微鏡 ○微小部品組立装置 ○干渉系露光装置 ○分光器用ファイバー集光系 ○基板加工機 ●詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ワイヤード株式会社