• 残圧下で簡単接続!液だれほぼ無しストーブリの大口径カップリング! 製品画像

    残圧下で簡単接続!液だれほぼ無しストーブリの大口径カップリング!

    PR着脱時の液だれがほぼゼロ【ノンスピルカップリング】 / 圧力損失がほぼ…

    【大口径ノンスピルカップリング】 製品名:【TCH】 / 【TCB】 / 【TTX】 (全3種類) 残圧下6barまで簡単に接続可能!着脱時の液だれほぼ無しを実現!ハンドルを回して簡単着脱の大口径カップリング! <特長> ・着脱時の液だれ/エア噛み/コンタミ混入ほぼゼロのノンスピル構造で、現場や作業者の安全を守ります ・誰でも簡単にハンドルを回すだけで接続を可能にしたストーブリ独自の技術...

    • Screenshot 2024-04-23 100843.png
    • Screenshot 2024-04-23 100932.png
    • Screenshot 2024-04-23 100725.png
    • Screenshot 2022-12-09 152056.png

    メーカー・取り扱い企業: ストーブリ株式会社

  • 『JSKブランド 新製品のご紹介』 ※販売協力会社を募集中! 製品画像

    『JSKブランド 新製品のご紹介』 ※販売協力会社を募集中!

    PRバルブ、ガスフィルター、パイプ・チューブの新製品がラインアップに多数追…

    当社は超高純度ガス・ケミカル・極高真空用の継手をはじめ、 バルブ、ガスフィルター、パイプ・チューブなどの製造を手掛けています。 2024年には山形に新工場を設け、生産体制をより一層強化しました。 『JSKブランド』として、多数の製品をご用意しており、 今回は、新たに追加された製品をご紹介いたします。 【新製品ラインアップ】 ■「パイプ・チューブ」  ケミカル・一般産業向けから...

    • s1.PNG
    • s2.PNG
    • s3.PNG

    メーカー・取り扱い企業: 三興工業株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    ℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    ℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • IPROS12974597166697767058 (1).jpg
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR